PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級版

（PICOSUN™ ALD P-300 Advanced）

名稱：原子層沉積系統(tǒng)   產(chǎn)地：芬蘭

PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級版

Picosun簡介

Picosun是yi家公司，Picosun的總部位于芬蘭的Espoo，其生產(chǎn)設施位于芬蘭的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD設備專為高產(chǎn)量和高產(chǎn)量而設計，并且不斷發(fā)展以提高效率。Picosun適應性強其客戶包括  大的電子制造商，小型的創(chuàng)新型挑戰(zhàn)者以及的大學。 Picosun的組織機構和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個客戶的需求。PICOSUN®研發(fā)工具具有*的內置可擴展性，可確保將研究結果平穩(wěn)過渡到大批量工業(yè)制造中，而不會出現(xiàn)技術差距。Picosun的熱情在于創(chuàng)新。當您想與設備制造商共同創(chuàng)建定制的ALD解決方案，從而引ling行業(yè)發(fā)展時，Picosun是您的合作伙伴。

   PICOSUN™ R系列設備提供高質量ALD薄膜的沉積技術，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性，包括具挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學物提供的更高級的，易更換的前驅源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度小的薄膜層。在基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個獨立的，*分離的源入口匹配多種類型的前驅源。PICOSUN™ R系列*的擴展性使ALD工藝可以從研究環(huán)境直接過渡到生產(chǎn)環(huán)境的PICOSUN™ P系列ALD系統(tǒng)。由于研發(fā)型與生產(chǎn)型PICOSUN™反應腔室核心設計特點都是相同的,這消除了實驗室與制造車間之間的鴻溝。對大學來說,突破創(chuàng)新的技術轉化到生產(chǎn)中，就會吸引到企業(yè)投資。

PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級版

PICOSUN®R-300高級

Picosun™ 300mm生產(chǎn)線上的產(chǎn)品是300mm以下晶圓的自動化、高產(chǎn)量的工業(yè)ALD加工設備。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD設備。該工具可以獨立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系統(tǒng)以達到更高的產(chǎn)量和自動化水平。為了節(jié)約昂貴的設施空間，所有PICOSUN™的ALD系統(tǒng)有著緊湊、高效的設計。集成的專業(yè)機柜，裝載著前驅體和電子元件，保證了快速簡便的維護和短的停機時間。PICOSUN™ P系列工具保證了大產(chǎn)能以及節(jié)約成本的情況下得到的ALD工藝質量，并履行嚴格的現(xiàn)代半導體產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)力和安全要求。

工藝咨詢和開發(fā)，產(chǎn)能提升，維護保養(yǎng)流程和系統(tǒng)及工藝的故障排除，我們客戶化定制的PICOSUPPORT™綜合解決方案24小時快速響應，隨時待命。在購買之前，我們的演示服務保證了設備可以100%滿足客戶苛刻的產(chǎn)線需求。

技術指標

應用領域

客戶使用PICOSUN™ R系列ALD 設備在150mm和200mm（6“和8”）晶圓上所沉積薄膜厚度均勻性數(shù)據(jù)。

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