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中級(jí)會(huì)員 | 第7年

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  • RIE反應(yīng)離子刻蝕

    RIE反應(yīng)離子刻蝕采用模塊化設(shè)計(jì),可滿足III/V半導(dǎo)體和Si加工工藝領(lǐng)域的的靈活應(yīng)用。 SENTECH SI 591可應(yīng)用于各種領(lǐng)域的蝕刻工藝中,能夠完成多種...

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    感應(yīng)耦合等離子刻蝕等離子刻蝕RIE

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