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简介
PHI Quantera II扫描XPS探针是ULVAC-PHI公司最新研发的XPS分析仪器，是在业界获得非常卓.越成绩的Quantum 2000和Quantera SXM的基础上延申出来的，其革命性技术包括有：一个独.创的聚焦扫描X射线源，专.利的双束中和技术，在极低电压下仍可保持高性能的离子束源以进行XPS的深度分析，一个精密的五轴样品台和负责全自动样品传送的机械手臂，以及一个*自动化且可支持互联网远程控制的仪器操作平台。Quantera II 增加了这些革命性的技术性能，极大的提高了生产力，再一次提供了最高性能的XPS系统，以满足您当前和未来的XPS需要。
PHI Quantera II 扫描XPS探针
优点
操作简单
无论您是在分析一个薄膜样品、有机聚合物、一个大的塑料镜片，不锈钢刀片或是焊锡球等，仪器所有的设置和设定都是*相同的。操作者只需用鼠标在样品的光学图像上单击选择一个或多个分析区域，打开仪器的双光束中和系统和自动Z-轴高度调整功能，就可以通过仪器软件的自动队列（Add Q）执行所有分析。整个操作流程不需要任何的设定调整，不用因样品成分不一致而有任何顾虑，甚至也不需要有操作员整天待在仪器旁边，一切的操作都可以自动的完成。
图2 - 全自动无人值守，分析无忧的XPS Quantera II
薄膜分析
Quantera II 不仅提供了无机薄膜样品良好的深度剖面分析性能，而且也可以利用C60离子枪对有机薄膜得出非常*的深度分析结果。
| (a) |  | (b) |  |
图3 - (a) 以2 keV 氩离子溅射源对一个半导体封装的锡球表面进行深度分析；
(b) 使用10 keV C60离子源，对50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜进行深度分析。
扫描 XPS探针
PHI Quantera II使用了独.创的聚焦扫描X射线源，使XPS微区分析变得更高效。如图4所示，X射线源是经由聚焦电子光栅扫描并撞击在铝阳极上所产生的，由此产生的聚焦铝X射线会再透过椭球形状的单色器反射在样品表面上。当电子束扫描在铝阳极上时，所产生的X射线束在样品上也会作出同步的扫描。X射线束的直径大小可调范围为7.5微米以下到400微米以上。
图4 - (a) PHI 独.创的聚焦扫描X射线源说明。(b) 使用Quantera II 对MRS-3标样所生的二次电子像，可见
以Quantera II 可以分析到约直径为6微米区域的功能。
微区光谱
以下图5中聚合物表面异物样品为例。在光学显微镜下，透明的聚合物薄膜表面上未发现有任何污染物。而使用二次电子影像时就立即显示了聚合物表面上污染物的存在。在短短几分钟内，Quantera II仪器就可以利用一个直径为20微米的X射线束对污染物成分进行分析，从而确定为氟碳污染物。
图5 - Quantera II的污染分析。(a) 二次电子成像。(b) 多点采谱分析。(c) 碳 1s的图谱。 (d) 元素分布图（留意分布中右边较小点的污染不含有氟或碳）。 (e) 对较小的污染做点分析，使用7.5微米的X射线束确定了第二污染物含有锌的存在。
特点
X射线探针≤5微米的空间分辨率
高灵敏度的静电检测光学系统
双束中和系统
自动化的样品传输处理
仪器可容纳最大样品直径为100毫米，高度为25毫米
两个内部样品平台暂停区
高性能的离子枪
高速的深度分析
元素态或化学态的XPS成像
自动角分辨分析
PHI MultiPak 数据处理软件
可选配件
样品定位系统 (SPS)
热/冷样品台
冷样品引入装置
样品传输管和外部测试站
C60离子枪
Ar2500 GCIB离子枪
应用范围
化学：化学涂料，聚合物，催化剂
材质：金属，薄膜，纳米材料
电子：半导体，磁盘，微电子技术和显示技术
生物医学与生物医学设备
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