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造成膜厚儀測(cè)量數(shù)據(jù)產(chǎn)生偏差困擾的原因及應(yīng)對(duì)方法
閱讀：2565 發(fā)布時(shí)間：2021-4-27
膜厚儀分為手持式膜厚儀和臺(tái)式膜厚儀兩種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。
臺(tái)式的熒光X射線膜厚儀，是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子，俗稱為二次熒光，,在通過計(jì)算二次熒光的能量來計(jì)算厚度值。
保障膜厚儀測(cè)量顯示值準(zhǔn)確性必要懂得以下小技巧
基體金屬特性
對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。
檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度，無損檢測(cè)資源網(wǎng) 如果沒有，可采用3.3中的某種方法進(jìn)行校準(zhǔn)。
不應(yīng)在緊靠試件的突變處，如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測(cè)量。
不應(yīng)在試件的彎曲表面上測(cè)量。
