要沉積的材料在熱離子發(fā)射體的作用下生熱，從而產(chǎn)生光子，產(chǎn)生的光通過濾光器，到達(dá)光電倍增管，可以測(cè)量通過的波長(zhǎng)的發(fā)射強(qiáng)度。薄膜沉積控制儀利用流體流過發(fā)熱物體時(shí),發(fā)熱物體的熱量散失多少與流體的流量呈一定的比例關(guān)系，該系列流量計(jì)的傳感器有兩只標(biāo)準(zhǔn)級(jí)，一只用來做熱源，一只用來測(cè)量流體溫度，當(dāng)流體流動(dòng)時(shí),兩者之間的溫度差與流量的大小成線性關(guān)系，再通過微電子控制技術(shù)，將這種關(guān)系轉(zhuǎn)換為測(cè)量流量信號(hào)的線性輸出。
　　系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電子槍電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。體現(xiàn)立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝。
　　配以的控制系統(tǒng)，可以在工程塑料，玻璃和金屬表面鍍制單質(zhì)金屬膜、復(fù)合膜、電磁屏蔽膜、ITO膜。生產(chǎn)過程全部自動(dòng)，薄膜沉積控制儀可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)率的磁控濺射鍍膜。生產(chǎn)線可以根據(jù)需要配置多個(gè)真空室，采用立式或臥式，每個(gè)真空室根據(jù)需要配置不同的靶材，室與室之間采用獨(dú)立的真空抽氣系統(tǒng)，可以隨意調(diào)節(jié)各個(gè)真空室的氣體參數(shù)，鍍制不同的膜層，可以滿足工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)的需要。
　　該膜可以很容易地保持其形狀，即使在復(fù)雜的基表面，其的粘合強(qiáng)度，自粘性和濕應(yīng)用的方法，使建筑安全和環(huán)保，泄漏很少一切甚至膜破裂，其良好的蠕變變形的評(píng)價(jià)，該膜可用于鋼結(jié)構(gòu)屋面的臨時(shí)修復(fù)。晶體控制振蕩電路這樣當(dāng)晶體在鍍膜過程中的電特性改變時(shí)，振蕩電路變得不穩(wěn)定和“跳躍”至另一個(gè)諧振頻率或*故障，導(dǎo)致不正確的膜厚測(cè)量值。