——多模態(tài)臨界尺寸測量和薄膜計量學
FilmTekTM CD光學臨界尺寸系統(tǒng)是我們解決方案，可用于1x nm設計節(jié)點及更高級別的全自動化、高通量CD測量和高級薄膜分析。該系統(tǒng)同時提供已知和*未知結構的實時多層堆疊特性和CD測量。
FilmTek CD利用多模測量技術來滿足與開發(fā)和生產中復雜的半導體設計特征相關的挑戰(zhàn)性需求。這項技術能夠測量極小的線寬，在低于10納米的范圍內進行高精度測量。
依賴傳統(tǒng)橢圓偏振儀或反射儀技術的現有計量工具在實時準確解析CD測量的能力方面受到限制，需要在設備研究和開發(fā)期間生成繁瑣的庫。FilmTek CD通過獲得多模態(tài)測量技術克服了這一限制，該技術甚至為*未知的結構提供了單一解決方案。
FilmTek CD包括具有快速、實時優(yōu)化功能的專有衍射軟件。實時優(yōu)化允許用戶以小的設置時間和配方開發(fā)輕松測量未知結構，同時避免與庫生成相關的延遲和復雜度。
測量能力：
·厚度、折射率和光盤計量
·未知薄膜的光學常數表征
·超薄膜疊層厚度
·廣泛的關鍵尺寸測量應用，包括金屬柵極凹槽、高k凹槽、側壁角、抗蝕劑高度、硬掩模高度、溝槽和接觸輪廓以及間距行走
Bruker FilmTek CD橢偏儀在爾迪儀器有售，如有需要可聯系上海爾迪儀器科技有限公司！
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