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产品简介
详细介绍
氧化铝粉用于大部分材料的抛光
微米 | 用途 | 规格 | 产品编码 |
0-1 | 钢铁和硬金属 | 1L | 600711 |
0-0.7 | 半硬金属 | 1L | 600712 |
0-0.3 | 软金属 | 1L | 600713 |
Kemet胶体二氧化硅
在陶瓷和矿物质上，胶体二氧化硅电化学地刺激表面，以在样品表面上形成薄的反应层。 然后可以通过布或磨料的机械作用去除该反应层。 与直接机械磨料抛光相比，胶体硅胶的表面光洁度要好得多。 化学反应是放热的，因此通过提高温度可以提高这一作用。 这可以通过增加抛光压力来实现。 它可用于聚氨酯，短绒布和致密的低丝绸丝绸。 用去离子水稀释1：1效果更好或更高。
在使用中，用蒸馏水润湿抛光布，然后缓慢滴下或将悬浮液喷在抛光布上。 zui后，在抛光完成约10秒钟之前，连续加水，以去除被静电吸引到样品上的微细颗粒。
微米 | 用途 | 规格 | 产品编码 |
0.06 | zui终抛光阶段 | 1L | 600261 |
0.06 | zui终抛光阶段 | 5L | 600199 |
0.06 | zui终抛光阶段 | 20L | 600202
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