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目錄:瑞典百歐林科技有限公司>>KSV NIMA LB膜分析儀>>LB膜分析儀>> KSV NIMA Langmuir-Schaefer膜分析儀

KSV NIMA Langmuir-Schaefer膜分析儀
  • KSV NIMA Langmuir-Schaefer膜分析儀
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 Biolin/瑞典百歐林
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市
屬性

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更新時(shí)間:2025-03-25 10:53:30瀏覽次數(shù):137評(píng)價(jià)

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產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
KSV NIMA Langmuir-Schaefer膜分析儀支持多種聯(lián)用技術(shù),如紅外反射吸收光譜、布魯斯特角顯微鏡等,適用于生物膜、有機(jī)及無(wú)機(jī)涂料、表面活性劑等多個(gè)領(lǐng)域的研究。

KSV NIMA Langmuir-Schaefer膜分析儀

1. 產(chǎn)品簡(jiǎn)介

KSV NIMA為瑞典百歐林科技有限公司旗下的子品牌之一,主要經(jīng)營(yíng)方向?yàn)閱畏肿訉颖∧さ臉?gòu)建與表征工具。LSLangmuir-Schaefer)膜分析儀為KSV NIMA自主研發(fā)的一款單分子層膜的制備和表征設(shè)備,是LS膜的沉積領(lǐng)域應(yīng)用廣泛的一款設(shè)備。

LS膜分析儀基本組件與LB膜分析儀相同,但將原有垂直鍍膜頭更換為水平鍍膜頭組件,在所需的堆積密度下,鍍膜頭可以用來(lái)將Langmuir膜水平轉(zhuǎn)移到固體基材上,Langmuir膜的密度,厚度及均勻性等性質(zhì)將會(huì)保留,從而實(shí)現(xiàn)了制備不同組成的多分子層結(jié)構(gòu)的可能。

常規(guī)的LS膜分析儀包含三種型號(hào)的槽體:小型、中型、大型。

2. 工作原理

位于氣-液或液-液界面處不可溶的功能性分子、納米顆粒、納米線或微粒所形成的單分子層可定義為Langmuir膜。這些分子能夠在界面處自由移動(dòng),具有較強(qiáng)的流動(dòng)性,易于控制其堆積密度,研究單分子層的行為。將材料沉積在淺池(稱頂槽)中的水亞相上,可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下,單分子層可以被壓縮。表面壓力即堆積密度可以通過(guò)Langmuir膜分析儀的壓力傳感器進(jìn)行控制。

在進(jìn)行典型的等溫壓縮測(cè)試時(shí),單分子層先從二維的氣相(G)轉(zhuǎn)變到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在氣相中,分子間的相互作用力比較弱;當(dāng)表面積減小,分子間的堆積更為緊密,并開(kāi)始發(fā)生相互作用;在固相時(shí),分子的堆積是有序的,導(dǎo)致表面壓迅速增大。當(dāng)表面壓達(dá)到最大值即塌縮點(diǎn)后,單分子層的堆積不再可控。

1 單分子層膜狀態(tài)受表面壓力增加的影響

LS膜沉積過(guò)程是將樣品從單分子層中水平拉出(圖2),通過(guò)反復(fù)沉積技術(shù)可制備多層LS膜,親水性及疏水性樣品均可在液相或氣相中沉積為單分子層。

2 LS沉積過(guò)程示意圖

3. KSV NIMA Langmuir-Schaefer膜分析儀技術(shù)參數(shù)

3.1 小型LS膜分析儀(KN 2001

1.      槽體材質(zhì):固體燒結(jié),無(wú)孔PTFE材質(zhì),快速限位孔固定,可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體,含雙側(cè)導(dǎo)流槽,內(nèi)置水浴系統(tǒng)接口

2.      框體特性:33 mm槽體高度調(diào)節(jié),含安全限位開(kāi)關(guān),含攪拌、pH測(cè)量、樣品注射輔助系統(tǒng)等接口

3.      系統(tǒng)設(shè)計(jì):模塊化設(shè)計(jì),可獨(dú)立進(jìn)行表面壓測(cè)量和鍍膜實(shí)驗(yàn),可原位進(jìn)行表面紅外、表面電勢(shì)、布魯斯特角圖像、界面剪切等測(cè)試

4.      槽體表面積: 98 cm2

5.      槽體內(nèi)部尺寸:195 x 50 x 4 mm(長(zhǎng) x x高)

6.      滑障速度: 0.1-270 mm/min

7.      滑障速度精度: 0.1  mm/min

8.      測(cè)量范圍:0-150 mN/m

9.      天平最大負(fù)荷: 1 g,可三維

10.  天平定位調(diào)節(jié): 360° x 110mm x 45 mmXYZ

11.  傳感精度: 4 μN(yùn)/m

12.  表面壓測(cè)試元件: 標(biāo)準(zhǔn)Wilhelmy白金板,W19.62 x H 10mm,符合EN 14370:2004國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。其他選項(xiàng):Wilhelmy白金板(W10 x H10 mm)、液/Wilhelmy鉑金板(W19.62 x H7 mm)、Wilhelmy紙板、白金棒

13.  Langmuir測(cè)試槽亞相容積:39 ml

14.  Langmuir-Blodgett測(cè)試槽亞相容積:57 ml

15.  鍍膜井尺寸:20 x30 x 30 mm(長(zhǎng) x x高)

16.  最大基材尺寸:3 x 26 x26 mm1英寸

17.  最大鍍膜沖程: 80 mm

18.  鍍膜速度:0.1 108 mm/min

19.  電源: 100...240 VAC

20.  頻率: 50...60 Hz

3.2 中型LS膜分析儀(KN 2002

1.      槽體材質(zhì):固體燒結(jié),無(wú)孔PTFE材質(zhì),快速限位孔固定,可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體,含雙側(cè)導(dǎo)流槽,內(nèi)置水浴系統(tǒng)接口

2.      框體特性:33 mm槽體高度調(diào)節(jié),天平可XYZ三維定位調(diào)節(jié),含安全限位開(kāi)關(guān),含攪拌、pH測(cè)量、樣品注射輔助系統(tǒng)等接口

3.      系統(tǒng)設(shè)計(jì):模塊化設(shè)計(jì),可獨(dú)立進(jìn)行表面壓測(cè)量和鍍膜實(shí)驗(yàn),可原位進(jìn)行表面紅外、表面電勢(shì)、布魯斯特角圖像、界面剪切等測(cè)試

4.      槽體表面積: 273 cm2

5.      槽體內(nèi)部尺寸:364 x 75 x 4 mm(長(zhǎng) x x高)

6.      滑障速度: 0.1-270 mm/min

7.      滑障速度精度: 0.1  mm/min

8.      測(cè)量范圍:0-150 mN/m

9.      天平最大負(fù)荷: 1 g

10.  天平定位調(diào)節(jié) 360° x 110mm x 45 mmXYZ

11.  傳感精度: 4 μN/m

12.  表面壓測(cè)試元件: 標(biāo)準(zhǔn)Wilhelmy白金板,W19.62 x H 10mm,符合EN 14370:2004國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。其他選項(xiàng):Wilhelmy白金板(W10 x H10 mm)、液/Wilhelmy鉑金板(W19.62 x H7 mm)、Wilhelmy紙板、白金棒

13.  Langmuir測(cè)試槽亞相容積:109 ml

14.  Langmuir-Blodgett測(cè)試槽亞相容積:176 ml

15.  鍍膜井尺寸20 x56 x 60 mm(長(zhǎng) x x高)

16.  最大基材尺寸:3 x 52 x56 mm2英寸

17.  最大鍍膜沖程: 80 mm

18.  鍍膜速度:0.1 108 mm/min

19.  電源: 100...240 VAC

20.  頻率: 50...60 Hz

3.3 大型LS膜分析儀(KN 2003

1.      槽體材質(zhì):固體燒結(jié),無(wú)孔PTFE材質(zhì),快速限位孔固定,可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體,含雙側(cè)導(dǎo)流槽,內(nèi)置水浴系統(tǒng)接口

2.      框體特性:33 mm槽體高度調(diào)節(jié),天平可XYZ三維定位調(diào)節(jié),含安全限位開(kāi)關(guān),含攪拌、pH測(cè)量、樣品注射輔助系統(tǒng)等接口

3.      系統(tǒng)設(shè)計(jì):模塊化設(shè)計(jì),可獨(dú)立進(jìn)行表面壓測(cè)量和鍍膜實(shí)驗(yàn),可原位進(jìn)行表面紅外、表面電勢(shì)、布魯斯特角圖像、界面剪切等測(cè)試

4.      槽體表面積: 841 cm2

5.      槽體內(nèi)部尺寸:580 x 145 x 4 mm(長(zhǎng) x x高)

6.      滑障速度: 0.1-270 mm/min

7.      滑障速度精度: 0.1  mm/min

8.      測(cè)量范圍:0-150 mN/m

9.      天平最大負(fù)荷: 1 g

10.  天平定位調(diào)節(jié) 360° x 110mm x 45 mmXYZ

11.  傳感精度: 4 μN(yùn)/m

12.  表面壓測(cè)試元件: 標(biāo)準(zhǔn)Wilhelmy白金板,W19.62 x H 10mm,符合EN 14370:2004國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。其他選項(xiàng):Wilhelmy白金板(W10 x H10 mm)、液/Wilhelmy鉑金板(W19.62 x H7 mm)、Wilhelmy紙板、白金棒

13.  Langmuir測(cè)試槽亞相容積:336 ml

14.  Langmuir-Blodgett測(cè)試槽亞相容積:578 ml

15.  鍍膜井尺寸:20 x110 x 110 mm(長(zhǎng) x x高)

16.  最大基材尺寸:3 x 106 x106 mm4英寸

17.  最大鍍膜沖程: 80 mm

18.  鍍膜速度:0.1 108 mm/min

19.  電源: 100...240 VAC

20.  頻率: 50...60 Hz

4. 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)及亮點(diǎn)

4.1 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

1.      專為極度精確測(cè)試設(shè)計(jì)的超敏感表面張力傳感器。鉑金屬板,鉑金屬棒及紙板都可用作探針以滿足不同的需求。

2.      開(kāi)放性的設(shè)計(jì)便于槽體在框架上的放置及不同槽體的快速更換,同時(shí)便于清洗槽體表面。

3.      當(dāng)需要清潔或更換新槽體時(shí),槽體在框架上的拆卸/放置極其方便。

4.      Langmuir-Schaefer槽體是由便于清潔、可靠耐久的整塊純聚四氟乙烯構(gòu)成,其設(shè)計(jì)能夠防止槽體和鍍膜井發(fā)生泄漏,同時(shí)避免了使用膠水及其他封裝材料造成的潛在污染。

5.      滑障由親水性的迭爾林聚甲醛樹(shù)酯制成,可提高單分子層的穩(wěn)定性。可根據(jù)客戶需要提供疏水性的聚四氟乙烯壓縮滑障。穩(wěn)健的金屬構(gòu)架能夠防止滑障隨著時(shí)間的推移而變形。

6.      對(duì)稱滑障壓縮為標(biāo)準(zhǔn)的均勻壓縮方法,但任意儀器均可實(shí)現(xiàn)單一滑障壓縮。

7.      居中的鍍膜井有利于單分子層LS沉積的均一性。

8.      通過(guò)外部循環(huán)水浴對(duì)鋁制底板進(jìn)行加熱/冷卻,以控制亞相的溫度(水浴為分開(kāi)銷售)。

9.      通過(guò)調(diào)整框架撐腳,可快速而準(zhǔn)確地校準(zhǔn)槽體水平。當(dāng)需要放置顯微鏡時(shí),框架撐腳也可很容易地從槽體上拆除。

4.2 產(chǎn)品亮點(diǎn)

4.2.1 聯(lián)用或相關(guān)分析技術(shù)

本產(chǎn)品可與界面紅外反射吸收光譜儀(PM-IRRAS),布魯斯特角顯微鏡(BAM),界面剪切流變儀(ISR),熒光顯微鏡,X射線等光學(xué)表征技術(shù)聯(lián)用或?qū)悠愤M(jìn)行后續(xù)分析。具體如:

1.      紅外反射吸收光譜(KSV NIMA PM-IRRAS)

2.      石英晶體微天平(Q-Sense QCM-D)

3.      表面等離子共振儀

4.      電導(dǎo)率測(cè)量?jī)x

5.      紫外可見(jiàn)吸收光譜儀

6.      原子力顯微鏡

7.      X射線反射器

8.      透射電子顯微鏡

9.      橢圓偏振儀

10.  X射線光電子能譜儀等

4.2.2 本公司可提供聯(lián)用儀器簡(jiǎn)介

1.      界面紅外反射吸收光譜儀PM-IRRAS

帶極化模塊的界面紅外反射吸收光譜儀主要用來(lái)決定分子的取向和化學(xué)組成。

2.      布魯斯特角顯微鏡(BAM

可進(jìn)行薄膜的均一性、相行為和形貌的單分子層成像和光學(xué)觀測(cè)。

3.      表面電位測(cè)量?jī)x(SPOT

使用無(wú)損振蕩板式電容技術(shù)來(lái)監(jiān)測(cè)薄膜的電位變化,從而對(duì)單分子層的電學(xué)性質(zhì)進(jìn)行表征。提供堆積密度和取向等信息,可對(duì)任何Langmuir等溫測(cè)試進(jìn)行補(bǔ)充。

4.      界面剪切流變儀(ISR

這種剪切流變儀可以測(cè)量界面處的粘彈性。適用于氣-液或油-水的研究,在控制表面壓的同時(shí),可對(duì)粘彈性進(jìn)行分析。

5. 產(chǎn)品應(yīng)用

5.1 應(yīng)用范圍

l  生物膜及生物分子間的相互作用

細(xì)胞膜模型(如:蛋白質(zhì)與離子的相互作用)

構(gòu)象變化及反應(yīng)

藥物傳輸及行為

l  有機(jī)及無(wú)機(jī)涂料

具有光學(xué)、電學(xué)及結(jié)構(gòu)特性的功能性材料

新型涂料:納米管、納米線、石墨烯等

l  表面反應(yīng)

聚合反應(yīng)

免疫反應(yīng)、酶-底物反應(yīng)

生物傳感器、表面固定催化劑

表面吸附和脫附

l  表面活性劑及膠體

配方科學(xué)

膠體穩(wěn)定性

乳化、分散、泡沫穩(wěn)定性

l  薄膜的流變性

擴(kuò)張流變

界面剪切流變(與KSV NIMA ISR 聯(lián)用)

5.2 客戶發(fā)表成果(部分)

1.      Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)

2.      Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)

3.      S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)

4.      Q. Zheng et al., ACS Nano 2011,  5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)

5.      Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)

6.      Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)

7.      Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)


注:相關(guān)資料如有變化,恕不另行通知,瑞典百歐林科技有限公司對(duì)資料中可能出現(xiàn)的紕漏免責(zé),更多資料歡迎來(lái)電詢問(wèn)。


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