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上海巖征實(shí)驗(yàn)儀器有限公司

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CMP化學(xué)機(jī)械拋光液生產(chǎn)裝置
  • CMP化學(xué)機(jī)械拋光液生產(chǎn)裝置

貨物所在地:上海上海市

更新時間:2024-12-19 10:57:51

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CMP 化學(xué)機(jī)械拋光液生產(chǎn)裝置是用于大規(guī)模制造 CMP 化學(xué)機(jī)械拋光液的重要設(shè)施。
CMP 化學(xué)機(jī)械拋光液生產(chǎn)裝置是用于大規(guī)模制造 CMP 化學(xué)機(jī)械拋光液的重要設(shè)施。


主要組成部分


  1. 原料儲存罐:用于存放各種原材料,如磨料、化學(xué)添加劑、溶劑等,并具備良好的密封性和防腐蝕性能。

  2. 精確計(jì)量系統(tǒng):包括高精度的計(jì)量泵和傳感器,確保每種原料的添加量準(zhǔn)確無誤。

  3. 反應(yīng)釜:這是核心部件,通常具有攪拌、加熱和冷卻功能,以促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)和物料混合。

  4. 均質(zhì)設(shè)備:如均質(zhì)機(jī)或乳化機(jī),用于使拋光液中的顆粒均勻分散,提高產(chǎn)品穩(wěn)定性。

  5. 凈化過濾系統(tǒng):由多級過濾器組成,能夠去除雜質(zhì)、大顆粒和微生物,保證拋光液的純凈度。

  6. 灌裝系統(tǒng):包括灌裝泵、管道和灌裝頭,實(shí)現(xiàn)拋光液的快速、準(zhǔn)確灌裝。

  7. 控制系統(tǒng):采用先進(jìn)的自動化控制技術(shù),對整個生產(chǎn)過程中的溫度、壓力、流量、攪拌速度等參數(shù)進(jìn)行精確控制和監(jiān)測。


工作流程
各種原材料從儲存罐中按照設(shè)定的比例,通過精確計(jì)量系統(tǒng)被輸送到反應(yīng)釜中。在反應(yīng)釜內(nèi),在攪拌、加熱或冷卻的條件下進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)和混合。之后,物料進(jìn)入均質(zhì)設(shè)備進(jìn)一步處理,使其達(dá)到均勻分散的狀態(tài)。然后,經(jīng)過凈化過濾系統(tǒng)去除雜質(zhì)和不良顆粒。最后,合格的拋光液通過灌裝系統(tǒng)進(jìn)行包裝。



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