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原子層沉積

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ALD 原子層沉積參考價：面議
ALD 原子層沉積原理通過在工藝循環(huán)周期內分步向真空腔內添加前驅體、實現(xiàn)對膜層厚度的精確控制。區(qū)別于普通CVD或PECVD原理，ALD可沉積超薄的、無針孔和顆粒...
型號：廠商性質：經(jīng)銷商所在地：北京市對比

ALD原子層沉積

2024/3/18 11:02:432436

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