2dsemiconductors kish-graphite說明書

基什石墨

Kish 石墨已在實驗室使用熔融鐵碳化物冷卻工藝合成，以實現(xiàn)研究級 Kish 石墨材料。通常 Kish 石墨是不銹鋼工藝的天然副產(chǎn)品，通常從冷卻的鐵表面收集小石墨片。這個過程的目的不是生產(chǎn)石墨，而是專注于生產(chǎn)含碳雜質(zhì)的鐵。因此，基什石墨的純度通常為 75%。 

我們開發(fā)了鐵箔冷卻工藝，通過半導體級甲烷和乙烷混合物將碳溶解到厚鐵箔中并仔細冷卻以產(chǎn)生高質(zhì)量的 kish 石墨片。這些晶體的尺寸從毫米到 5-6 毫米不等，具有高純度（99.99% 或更高）和結(jié)晶度（的 vdW 結(jié)構(gòu)，與 HOPG 相比易于剝落）。 

實驗室生長的 Kish 石墨的典型特征