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| 腔体尺寸 | 球形腔体，直径：400 mm | 样品尺寸 | 1 英寸或 2 英寸向下兼容 |
|---|---|---|---|
| 样品加热 | 辐射式加热 / 电阻式加热 / 激光加热 1000 ℃ / 950 ℃ / 1400 ℃ | RHEED | 两级差分，30 kV |
| 靶台操控 | 6 靶位，1 英寸靶托，公自转设计 | 抽气泵组 | 进口：Pfeiffer分子泵，685 l/s Leybold干泵，14.5 m3/h |
| 气路 | 进口：质量流量计MKS，50 / 100 sccm | 控压方式 | 手动角阀/漏阀控压 |
| 极限真空 | 5 x 10-9 mbar | 光路支架 | 可根据用户现场定制 |
| 软件控制 | 动作程序控制，软件编程控制工艺，设备全套互锁 |
激光 分子束外延系统是一种用于物理学、材料科学领域的工艺试验仪器，综合了脉冲激光沉积和分子束外延的特点和优势。它能在高真空、真空条件下实现原位实时监控薄膜原子尺度层状外延生长。这一系统适用于多种有机、无机薄膜的制备，尤其适宜于用其它制膜设备和方法难以制备的高熔点、多元素（特别是含有气体元素时）、复杂层状结构的薄膜和超晶格的制备。此外，它还可以同时进行激光与物质相互作用及成膜过程的物理、化学观测，为探索、开发新材料、新器件及相关基础研究提供了一个强有力的平台。
以上内容仅供参考，如需更多信息，可咨询激光分子束外延系统方面的专家。激光分子束外延系统的核心部分是激光脉冲沉积系统，该系统使用高能量的脉冲激光束照射靶材，使靶材表面瞬间达到高温高压状态，进而蒸发、离化靶材原子或分子，形成高温、高密度的等离子体羽辉。这些离子、原子或分子在羽辉中迅速冷却并定向传输到基片表面，最终沉积形成薄膜。
激光 分子束外延系统的另一个重要组成部分是超高真空系统，该系统能够在生长过程中保持真空度，有效防止杂质和污染物对薄膜生长的影响。同时，该系统还配备了多种原位监测和表征手段，如反射式高能电子衍射仪（RHEED）、光学显微镜、椭偏仪等，可以对薄膜生长过程进行实时监控和精确控制。
此外，激光分子束外延系统还具有高度的灵活性和可扩展性。通过改变靶材和基片的种类，以及调整激光参数和生长条件，可以制备出各种不同类型、不同性能的薄膜材料。同时，该系统还可以与其他先进的实验设备和技术相结合，如原子力显微镜（AFM）、扫描隧道显微镜（STM）等，以进一步探索薄膜材料的物理和化学性质。
总之，激光分子束外延系统是一种功能强大、应用广泛的薄膜制备技术，它在材料科学、物理学、电子学等领域的研究和应用中发挥着重要作用。随着科学技术的不断发展，激光分子束外延系统将在更多领域展现出的优势和潜力。
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