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培養(yǎng)基的配制原則

1. 選擇適宜的營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)

微生物生長(zhǎng)繁殖都需要培養(yǎng)基含有碳源、氮源、無(wú)機(jī)鹽、生長(zhǎng)因子、水及能源。不同的微生物對(duì)營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)的需求是不一樣的。例如自養(yǎng)型微生物能從簡(jiǎn)單的簡(jiǎn)單的元機(jī)物合成自身需要的糖類、脂類、蛋白質(zhì)、核酸、維生素等復(fù)雜的的有機(jī)物，因此培養(yǎng)自養(yǎng)型微生物的培養(yǎng)基本*可以由簡(jiǎn)單的無(wú)機(jī)物組成。

1. 營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)濃度及配比合適。

培養(yǎng)基中營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)濃度合適時(shí)微生物才能生長(zhǎng)良好，養(yǎng)物質(zhì)過(guò)低時(shí)不能滿足微生物正生長(zhǎng)需求，濃度過(guò)高則可能微生物生長(zhǎng)起抑制作用。

3.控制PH條件

    養(yǎng)基的PH必須控制在一定的范圍內(nèi)，以滿足不同類型微生物的生長(zhǎng)繁殖或產(chǎn)生代謝產(chǎn)物。一般來(lái)講，細(xì)菌與放線菌適于在PH7-7.5范圍內(nèi)生長(zhǎng)，酵母菌和霉菌通常在PH4.5-6范圍內(nèi)生長(zhǎng)。為了維持培養(yǎng)基PH的相對(duì)恒定，通常在培養(yǎng)基中加入PH緩沖劑，常用的緩沖劑是一氫和二氫磷酸鹽組成的混合物。

4.控制氧化還原電位

    同類型微生物生長(zhǎng)對(duì)氧化還原電位的要求不一樣，一般好氧性微生物在氧化還原電位值為+0.1V以上時(shí)可以正常生長(zhǎng)，一般在+0.3-+0.4V宜。厭氧性微生物只能在氧化還原電位值為+0.1V以下生長(zhǎng)。

5、原理來(lái)源的選擇

在配置培養(yǎng)基時(shí)應(yīng)盡量利用廉價(jià)且易獲得的原料作為培養(yǎng)基的成分，特別是在發(fā)酵工業(yè)中，培養(yǎng)基用量很大，利用低成本的原料更體現(xiàn)出經(jīng)濟(jì)價(jià)值。

6、滅菌處理

    對(duì)培養(yǎng)基一般采取高壓蒸汽滅菌，在壓蒸汽滅菌過(guò)程中，長(zhǎng)時(shí)間高溫會(huì)使某些不耐溫物質(zhì)遭到破壞。在配置培養(yǎng)基的過(guò)程中，泡沫的存在對(duì)滅菌處理不利，因?yàn)榕菽械目諝庑纬筛魺釋?，使泡沫中的微生物難以殺死。因而有時(shí)需要在培養(yǎng)基中加入消泡沫劑以減少泡沫的產(chǎn)生。