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SMC新推出一款化學液用氣控閥 JLV系列，該產(chǎn)品通過創(chuàng)新結構設計，大大降低閥關閉時的沖擊，從而有效的抑制了微粒的產(chǎn)生。閥主體采用高純PFA材質(zhì)，對應高工作壓力及背壓，兼具結構緊湊、省空間的特點，適用于涂膠顯影、CMP、清洗、濕法蝕刻、藥液供給等Wet相關各個工藝環(huán)節(jié)，特別是28nm以下對微粒要求更加嚴格的工藝制程。

SMC氣控閥 JLV系列應用案例：蝕刻裝置

CMP

涂膠顯影機

清洗機

抑制微塵的產(chǎn)生

優(yōu)化先導排氣，降低閥關閉時的沖擊力。

采用耐化學品性的材質(zhì)

減少安裝空間

對應高壓／高背壓

使用壓力、背壓范圍擴大，共通化。使用壓力：0～0.5MPa(與以前產(chǎn)品相比最大提高66%）※主體class3的場合背壓：0～0.5MPa(與以前產(chǎn)品相比最大提高150%）