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日本歐姆龍光電傳感器原理
點(diǎn)擊次數(shù)：1393 發(fā)布時(shí)間：2011-2-17
日本歐姆龍光電傳感器原理，歐姆龍光電傳感器，光電傳感器原理
①光的性質(zhì)
直射
光在空氣中和水中時(shí)，總是直線傳播。
使用對(duì)射型傳感器外置的開叉來(lái)檢測(cè)微小物體的示例便是運(yùn)用了這種原理。
曲折
是指光射入到曲折率不同的界面上時(shí)，通過(guò)該界面后，改變行進(jìn)方向的現(xiàn)象。
反射（正反射、回歸反射、擴(kuò)散反射）
在鏡面和玻璃平面上，光會(huì)以與入射角相同的角度反射，稱為正反射。
3個(gè)平面互相直角般組合的形狀稱為三面直角棱鏡。
如果面向三面直角棱鏡投光，將反復(fù)進(jìn)行正反射，zui終的反射光將向投光的反方向行進(jìn)。
這樣的反射稱為回歸反射。
多數(shù)的回歸反射板都是由數(shù)mm角的三面直角棱鏡按規(guī)律排列而構(gòu)成的。
此外，在白紙等沒有光澤性的表面上，光線將向各個(gè)方向反射，這樣的反射稱為擴(kuò)散反射。
擴(kuò)散反射型將該原理作為檢測(cè)方式。
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偏光
光線可以表現(xiàn)為與其行進(jìn)方向垂直的振動(dòng)波。作為日本歐姆龍光電傳感器的光源，主要使用LED。從
LED投射的光線，會(huì)在與行進(jìn)方向垂直的各個(gè)方向上振動(dòng)，這種狀態(tài)的光稱為無(wú)偏光。將無(wú)偏
光的光的振動(dòng)方向限制在一個(gè)方向上的光學(xué)過(guò)濾器稱為偏光過(guò)濾器。即從LED投光，并通過(guò)偏
光過(guò)濾器的光線只在一個(gè)方向上振動(dòng)，這種狀態(tài)稱為偏光（正確地說(shuō)應(yīng)為直線偏光）。在某
一方向（例如縱方向）上振動(dòng)的偏光，無(wú)法通過(guò)限制在其垂直方向（橫方向）上振動(dòng)的偏光
過(guò)濾器?；貧w反射型的M.S.R功能（→③M.S.R.功能（Mirror Surface Rejection：鏡面體光澤
清除）頁(yè)）和作為對(duì)射型配件的防止相互干擾過(guò)濾器就是應(yīng)用了這種原理。
②光源
光的點(diǎn)亮方式
<脈沖變調(diào)光>
多數(shù)日本歐姆龍光電傳感器采用脈沖變調(diào)光，基本以一定周期反復(fù)投光。
由于很容易排除雜亂光的影響，所以可以實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)距離檢測(cè)。在帶防止相互干擾功能的類型中
，投光的周期會(huì)根據(jù)干擾光和雜亂光而在一定范圍內(nèi)變化。
<直流光>
是連續(xù)投射一定光量的光線，在標(biāo)記傳感器等部分機(jī)型中使用。能得到高速響應(yīng)性，但有檢
測(cè)距離短，容易受雜亂光影響等缺點(diǎn)。
光源色與種類
③光纖型
構(gòu)造
由于檢測(cè)部（光纖）中*沒有電氣部分，所以耐干擾等耐環(huán)境性良好。
E3X-DA-S（數(shù)字放大器）
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檢測(cè)原理
光纖由中間的核心和外圍部分曲折率較小的外包金屬構(gòu)成。
如果光線入射到核心部分，光線將會(huì)在與外包金屬的交界面上一邊反復(fù)進(jìn)行全反射，一邊行進(jìn)。通過(guò)光纖
內(nèi)部從端面發(fā)出的光線以約60°的角度擴(kuò)散，照射到檢測(cè)物體上。
光纖的種類與特性
截面 構(gòu)造 特長(zhǎng) 有效用途 代表型號(hào)
柔軟型
（多核心）
（中間的素線固定） 很少因彎曲造成光量變動(dòng)
容許彎曲半徑：R1mm 與傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)型相比
柔軟，可像電線般布線
彎曲半徑可忽略
即使碰觸到光纖，光量也不變動(dòng) E32-T11R
E32-T11R
標(biāo)準(zhǔn)型
單芯
光的傳輸效果好 （檢測(cè)距離較長(zhǎng)）
容許彎曲半徑 ： R25mm或R10mm E32-TC200
E32-DC200
耐彎曲型（束）
（中間的素線分散） 耐曲折性良好
反復(fù)彎曲次數(shù)100萬(wàn)次以上（代表例）
容許彎曲半徑：R4mm 即使使用機(jī)器人手臂等可動(dòng)的部分也很難破損 E32-T11
E32-D11
④三角測(cè)距
距離設(shè)定型日本歐姆龍光電傳感器主要以三角測(cè)距為檢測(cè)原理。下圖所示的是三角測(cè)距的原理。從投光
元件投射的光線將在檢測(cè)物體上擴(kuò)散反射。反射光將通過(guò)受光透鏡在位置檢測(cè)元件（輸出符
合光線位置信號(hào)的半導(dǎo)體元件）上成像。檢測(cè)物體在靠近光學(xué)系統(tǒng)的位置A的情況下，反射光
會(huì)在位置檢測(cè)元件的a位置上成像。在離光學(xué)系統(tǒng)較遠(yuǎn)的位置B的情況下，反射光將在b位置上
成像。因此，通過(guò)測(cè)定位置檢測(cè)元件上的成像位置，可以檢測(cè)與檢測(cè)物體的距離。
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