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QUANTUM量子科學儀器貿(mào)易(北京)有限公司

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[供應]Nano PVD系列-多功能薄膜制備系統(tǒng)-Nano PVD系列

貨物所在地:北京北京市

產(chǎn)地:英國

更新時間:2025-04-18 21:00:08

有效期:2025年4月18日 -- 2025年10月18日

已獲點擊:199

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)

Moorfield近推出了多功能薄膜制備系統(tǒng)-Nano PVD系列,高度集成化的高真空高性能臺式PVD系統(tǒng)。越、高效的性能適用于眾多薄膜的研究工作。

多功能薄膜制備系統(tǒng)-Nano PVD系列

 

   基于多年大型薄膜制備系統(tǒng)的設(shè)計與研發(fā)所積累的豐富經(jīng)驗,Moorfield Nanotechnology深入了解了劍橋大學、諾森比亞大學、帝國理工學院、巴斯大學、??巳髮W、倫敦瑪麗女王大學等多所*大學科研團隊的具體需求,經(jīng)過不懈努力推出了臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列產(chǎn)品。該系列產(chǎn)品是為高水平學術(shù)研究研發(fā)的小型物理氣相沉積設(shè)備。推出之后短短幾年時間已經(jīng)在歐洲銷售了數(shù)十臺,該系列產(chǎn)品包含了磁控濺射、金屬/機物熱蒸發(fā)系統(tǒng)。這些設(shè)備雖然體積小巧,但是性能,能夠快速實現(xiàn)高質(zhì)量納米薄膜、異質(zhì)結(jié)的制備,通常在大型設(shè)備中才有的共濺射和反應濺射功能也可以在該系列產(chǎn)品上實現(xiàn)。精準的有機物沉積系統(tǒng)更是該系列的大色。便捷的操作、智能的控制、高效的制備效率讓您的學術(shù)研究進入快車道。

設(shè)備型號

臺式高質(zhì)量多功能薄膜磁控濺射系統(tǒng) - nanoPVD S10A

    nanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology傾力打造的款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統(tǒng)。該系統(tǒng)雖然體積小巧,但是功能出色、配置齊全。該型號的推出是為了解決傳統(tǒng)臺式設(shè)備功能簡單不能滿足學術(shù)研究的問題。劍橋大學、諾森比亞大學、帝國理工學院等用戶都對這款臺式設(shè)備給予了很高的評價。

    nanoPVD S10A多可安裝3個水冷式濺射源,可實現(xiàn)高功率持續(xù)運行,靶材尺寸與大型系統(tǒng)樣是行業(yè)通用尺寸。系統(tǒng)可以實現(xiàn)兩源共濺射方案,可以實現(xiàn)反應濺射方案,多可同時控制3路氣體。系統(tǒng)具有分子泵,可快速達到5*10-7mbar高真空。腔體取放樣品非常方便,樣品臺大尺寸4英寸,系統(tǒng)有智能化的觸屏控制系統(tǒng),采用完備的安全設(shè)計方案。

    nanoPVD S10A可用于制備高質(zhì)量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質(zhì)結(jié)等。

主要點:

◎  水冷式濺射源,通用2英寸設(shè)計

◎  MFC流量計高精度控制過程氣體

◎  DC/RF濺射電源可選

◎  全自動觸摸屏控制方案

◎  可設(shè)定、儲存多個濺射程序

◎  大4英寸基片

◎  本底真空<5*10-7mbar

◎  系統(tǒng)維護簡單

◎  完備的安全性設(shè)計

◎  兼容超凈間

◎  性能穩(wěn)定

選件:

◎  機械泵類型可選

◎  樣品腔快速充氣

◎  自動高精度壓力控制

◎  添加過程氣體

◎  500℃襯底加熱

◎  襯底旋轉(zhuǎn),Z向調(diào)節(jié)

◎  三源濺射系統(tǒng)

◎  共濺射方案

◎  DC/RF濺射電源可選

◎  濺射電源自動切換系統(tǒng)

◎  晶振膜厚測量系統(tǒng)

典型配置方案:

金屬沉積:2個濺射靶,配DC電源與電源切換系統(tǒng),襯底Z向調(diào)節(jié)與擋板系統(tǒng),晶振膜厚測量系統(tǒng)。

緣材料沉積:2個濺射靶,配RF電源與電源切換系統(tǒng),襯底加熱與氧氣通入氣路,襯底Z向調(diào)節(jié)與擋板系統(tǒng),晶振膜厚測量系統(tǒng)。

反應/共濺射:三個濺射靶,配備DC/RF電源與自由切換系統(tǒng),三路過程氣體(Ar、O2、N2)用于沉積氧化物或氮化物。

 

 

 

臺式超大面積高質(zhì)量薄膜磁控濺射系統(tǒng) - nanoPVD S10A-WA

    Moorfield Nanotechnology根據(jù)客戶超大樣品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面積高質(zhì)量薄膜磁控濺射系統(tǒng)。該型號是nanoPVD-S10A的拓展型號,用于制備超大尺寸的樣品,大樣品可達8英寸。

    該系統(tǒng)基于nanoPVD-S10A的成熟設(shè)計和性能,在相同腔體的設(shè)計基礎(chǔ)上對nanoPVD-S10A進行了調(diào)整,使濺射源正對襯底。結(jié)合襯底旋轉(zhuǎn),即使在生長8英寸的超大樣品時也可獲得很高的樣品均勻度。與nanoPVD-S10A樣,濺射源采用水冷式設(shè)計,可以持續(xù)高功率運行,可實現(xiàn)共濺射等功能。nanoPVD-S10-WA是款接受半定制化的設(shè)備,如有殊需求請聯(lián)系我們進行詳細討論。

主要點:

◎  可制備8英寸超大樣品

◎  水冷式2英寸標準濺射源

◎  MFC流量計高精度控制過程氣體

◎  直流/交流濺射電源可選

◎  全自動觸屏控制

◎  可設(shè)定、存儲多個生長程序

◎  本底真空<5×10-7mbar

◎  易于維護

◎  全面安全性設(shè)計

◎  兼容超凈間

◎  系統(tǒng)性能穩(wěn)定

 

選件:

◎  機械泵類型可選

◎  腔體快速充氣

◎  自動高分辨壓力控制

◎  增加過程氣體

◎  升至雙濺射源

◎  DC/RF電源可選

◎  濺射電源切換

◎  共濺射方案

◎  晶振膜厚測量系統(tǒng)

臺式高質(zhì)量金屬\有機物熱蒸發(fā)系統(tǒng) - nanoPVD T15A

    nanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中的型號,高腔體設(shè)計方案為熱蒸發(fā)而設(shè)計,確保薄膜均勻度,大可生長4英寸的薄膜樣品。近年時間在英國安裝就有十幾套,劍橋大學、巴斯大學、??巳髮W、倫敦瑪麗女王大學等都是該設(shè)備的用戶。

    系統(tǒng)可以配備低溫蒸發(fā)(LTE)和標準電阻蒸發(fā)源,分別用于沉積有機物和金屬薄膜。低熱容有機物蒸發(fā)源具有高精度的控制電源,可以精準的控制蒸發(fā)條件制備高質(zhì)量的有機物薄膜。金屬源采用盒式屏蔽模式,可以有效的減少交叉污染等問題。智能的控制系統(tǒng)和靈活的配置方案使PVD-T15A廣泛應用于材料研究域。

    nanoPVD T15A可用于制備高質(zhì)量的金屬、有機物薄膜和異質(zhì)結(jié)等材料??蓱糜趥鹘y(tǒng)材料科學和新型的OLED(有機發(fā)光二管)、OPV(有機光伏材料)和 OFET(有機場效應管)域。

主要點:

◎  可選金屬、有機物蒸發(fā)源

◎  高縱橫比的腔體,增加樣品均勻性

◎  全自動觸屏控制系統(tǒng)

◎  可設(shè)定、儲存多個蒸發(fā)程序

◎  大4” 基片

◎  本底真空<5*10-7mbar

◎  維護簡單

◎  完備的安全性設(shè)計

◎  性能穩(wěn)定

 

選件:

◎  機械泵類型可選

◎  樣品腔快速充氣

◎  自動高精度壓力控制

◎  多4個有機蒸發(fā)源

◎  多2個金屬蒸發(fā)源

◎  500℃襯底加熱

◎  襯底旋轉(zhuǎn),Z向調(diào)節(jié)

◎  晶振測量系統(tǒng)

 

典型配置指標:

金屬沉積:雙金屬源與擋板和晶振系統(tǒng)

有機物沉積:四個低溫蒸發(fā)源與擋板和晶振系統(tǒng)。

金屬/有機物沉積:兩個金屬源,兩個有機源與擋板和晶振系統(tǒng)。

 

 

用戶單位

劍橋大學

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帝國理工學院

??巳髮W

巴斯大學

諾森比亞大學

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倫敦瑪麗女王大學

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