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Nature子刊! 掃描探針顯微鏡控制器助力納米光電器件新成果

時間:2025-1-2閱讀:340

近日,由韓國浦項科技大學(xué)(POSTECH)物理學(xué)系的Hyeongwoo Lee和Sujeong Kim等人提出了一種新型的量子隧穿高速納米激子調(diào)制器,并利用RHK公司研發(fā)的掃描探針顯微鏡控制器-R9 Plus自主搭建了相關(guān)測量裝置,實現(xiàn)了在高達(dá)8 MHz頻率下的激子-三重子互變,為納米光電器件的發(fā)展帶來新突破。該成果以“Quantum tunneling high-speed nano-excitonic modulator"為題發(fā)表于《Nature Communications》上。



a)量子隧穿納米等離子體腔和高速激子-三重子轉(zhuǎn)換示意圖。

b) MoS2單層與等離子體Au尖接觸的能帶圖。

c) 結(jié)合自相關(guān)測量裝置的量子隧穿納米等離子體腔(QNC)原理圖。

 

本文中作者將傳統(tǒng)的光譜與自制的shear-force AFM 系統(tǒng)相結(jié)合,利用掃描探針顯微鏡控制器-R9 Plus準(zhǔn)確控制針尖和樣品之間的距離,其中Au 尖由優(yōu)化的電化學(xué)蝕刻工藝制成,被固定在諧振頻率為 32.768 kHz 的石英音叉上。同時,為了電場模塊能夠順利構(gòu)建量子隧穿納米等離子體腔,針尖和樣品均與函數(shù)發(fā)生器建立電連接。通過在針尖和樣品之間施加電位差的方式,成功在兩者之間感應(yīng)出局部電場,并利用基于R9 Plus的STM技術(shù)讀取了隧穿電流。由此可見,本文作者設(shè)計搭建的表征平臺充分展現(xiàn)了RHK公司SPM控制器的靈活性和兼容性。



圖文展示:

 

量子隧穿納米等離子體腔QNC中光場和電勢的空間分布


a. 當(dāng)尖與HfO?的距離為2 nm時,有(右)和沒有(左)HfO?層時光場強(qiáng)度 |EZ|2 的分布。

b. 不同尖-HfO?距離下在xy平面內(nèi)的 |EZ|2 分布。尖-樣品距離表示為d。橫截面視圖的z位置沿(a)中的白色虛線(MoS?單層)固定。

c. 當(dāng)d = 2 nm時,在尖施加直流偏壓后,有(右)和沒有(左)HfO?層時電勢的分布。

d. 由(a)和(c)中的白色虛線得出的光場強(qiáng)度 |EZ|2(黑色虛線)和電勢(藍(lán)色填充區(qū)域)的分布輪廓。

 

通過光和電控制實現(xiàn)納米級激子-三重子exciton-trion相互轉(zhuǎn)換

a. 二硫化鉬(MoS?)單層的光致發(fā)光(PL)光譜隨尖-樣品距離變化的等高線圖。

b. 由(a)得出的X0(紅色)和X-(藍(lán)色)發(fā)射強(qiáng)度隨距離的變化。

c. 當(dāng)尖-樣品距離小于3 nm(量子隧穿區(qū)域)時,MoS?單層的PL光譜隨Vtip的變化。

d. 當(dāng)金尖上的VtipDC為 +10V(頂部)、0V(中部)和 -10V(底部)時,MoS?單層的洛倫茲擬合PL光譜。(a)和(c)中的黑色虛線表示X0和X-的能量。

 

激子-三重子exciton-trion高速電調(diào)制的自相關(guān)測量


a. 描繪在二硫化鉬(MoS?)單層中,隨著調(diào)制幅度極性不同,激子行為改變的示意圖。左圖和右圖分別表示向X-主導(dǎo)狀態(tài)和X0主導(dǎo)狀態(tài)的轉(zhuǎn)變。

b. 在固定幅度為 +5V(X0調(diào)制)和激發(fā)功率約為150μW的情況下,不同調(diào)制頻率下電調(diào)制光致發(fā)光強(qiáng)度的測量符合計數(shù)。

c. 在激發(fā)功率約為3.5mW時,X-轉(zhuǎn)換( - 5V,藍(lán)色)和X0轉(zhuǎn)換( + 5V,紅色)的高速電調(diào)制。τ和VtipAC分別代表激子調(diào)制周期和金尖上的交流偏壓。

 

本研究展示了量子隧穿納米等離子體腔在觀測高速光電現(xiàn)象及其電調(diào)制方面的潛力和多功能性。實驗研究,包括納米級靜電摻雜和對納米光電特性的亞衍射極限分析,為納米尺度行為提供了全面的見解。作者的研究延伸到了對激子準(zhǔn)粒子的高速電調(diào)制,推動了各種利用修飾復(fù)合動力學(xué)、非線性效應(yīng)、谷極化和輸運(yùn)動力學(xué)的納米光電器件平臺的發(fā)展,為實現(xiàn)超快納米激子調(diào)制器開辟新的途徑。

 

利器介紹:


為滿足用戶的需求,RHK公司的掃描探針顯微鏡控制器不斷進(jìn)階,其R9 Plus已成功升級至R10。全新的 R10 秉持更為前沿的模塊化設(shè)計理念,旨在滿足研究人員更高的定制要求。R10可提供多達(dá)2個超高速ADC、2個超高速DAC、6個鎖相放大器、2個鎖相環(huán)。



用戶現(xiàn)場安裝的R10控制器、高壓放大器、壓電陶瓷馬達(dá)控制器實物圖

 

性能升級:

> 全新的FPGA固件構(gòu)架地提高了配置靈活性

> 對于測量提供了60多個可用的數(shù)據(jù)通道

> 數(shù)據(jù)流和掃描速度均提高5

> 優(yōu)化的高壓輸出電路板,噪聲水平降低到R9控制器的1/4

> 兩個掃描探針控制系統(tǒng)

> 可設(shè)置任意密度的網(wǎng)格點(diǎn)進(jìn)行圖譜測量

 

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若有對設(shè)備有任何問題,歡迎通過如下方式聯(lián)系Quantum Design中國子公司,我們將竭誠為您服務(wù),助力您的科研工作順利開展。



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