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輸入電壓

AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz

輸入功率

< 2000W 

輸出功率

• 電壓：1600VDC
• zui大電流：150mA 

腔體

石英腔體：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height

濺射頭和樣品臺

• 2英寸帶水冷磁控濺射頭
• 一個(gè)直徑50mm不銹鋼樣品臺，樣品臺可旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速率0 - 5 RPM 

• 配有一手動操作的擋板，包含靶頭支撐架

• 樣品臺和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍：60-100mm

       （點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）

控制面板

6" PLC集成觸摸屏控制面板，可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度

附件（可選）

• 雙極旋片真空泵VRD-8，KF25接口

• KF25不銹鋼波紋管

• 10L/min 循環(huán)水冷機(jī)冷卻磁控靶頭  
    

氣氛

含一個(gè)控制進(jìn)氣的針閥和一個(gè)放氣閥

靶材

• 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
• 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬，可選購

可選配件

• 膜厚監(jiān)測儀
• 分子泵，可獲得高真空， >10E-5 torr
• 為獲得的薄膜強(qiáng)度，建議鍍膜前用等離子清洗機(jī)對基片進(jìn)行清洗。
• 500度樣品加熱臺         
      

體積

    
  ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 

凈重

20 kg ( not included pump )

質(zhì)保和證書

• 一年質(zhì)保，終生維護(hù)
• CE認(rèn)證

磁控濺射鍍膜知識

與客戶分享的磁控濺射鍍膜技術(shù)，請點(diǎn)擊文章鏈接- Plasma Sputter Coating.