5英寸旋轉CVD管式爐 參考價：面議
OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋轉CVD爐。爐體有3個加熱區(qū)，可提高溫度均勻性，同時配有4通道的精密混氣系統(tǒng)。此款管式爐設計主要用于電池粉體材料表面...
1200℃ 4英寸雙溫區(qū)回轉CVD管式爐 參考價：面議
OTF-1200X-4-R-II-AF是一款4英寸雙溫區(qū)回轉CVD管，安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中，此過程可在氣氛保護環(huán)境下進行，...
PECVD管式爐（帶有預熱系統(tǒng)的滑動） 參考價：面議
OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PE-CVD管式爐系統(tǒng)，組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐，預熱爐（作...
小型雙爐體滑動管式爐 參考價：面議
OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐，爐管為Φ50×1400mm的石英管，并配有不銹鋼密封法蘭，儀器Z高溫度可以達到...
1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)-GSL-1700X-4-HVC 參考價：面議
GSL-1700X-4-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為4英寸，它是由二路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，其Z高工作溫度可達1600℃，...
1200°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)-OTF-1200X-HVC 參考價：面議
OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-單溫區(qū)管式爐，二路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成。其Z高工作溫度可達1200℃，極限真空度可達 to 10^-...
雙溫區(qū)開啟式真空管式爐 （管徑80mm, 1200C Max） OTF-1200X-80-II-F 參考價：面議
OTF-1200X-80-II-F3LV是一款通過CE認證的雙溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其管徑為80mm，采用雙旋片機械泵，供氣系統(tǒng)為三路浮子供氣系統(tǒng)，可以混合1-...
1200℃微型二通道混氣CVD系統(tǒng)-OTF-1200X- S50- 2F 參考價：面議
OTF-1200X-S50-2F迷你型CVD管式爐，是一款通過CE認證的可開啟式管式爐，能使樣品加熱到1200℃。左法蘭上安裝一個數(shù)字式真空顯示計，右法蘭上安裝...
1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)-OTF-1200X-80-I-F3LV 參考價：面議
OTF-1200X-80-I-F3LV是一款通過CE認證的單溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其管徑為80mm，采用機械泵，供氣系統(tǒng)為三路浮子供氣系統(tǒng)，其真空度可達到 10...
1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)-GSL-1700X-F3LV 參考價：面議
GSL-1700X-F3LV是一款CE認證的管式爐CVD系統(tǒng)，其真空泵采用雙旋片式，混氣系統(tǒng)采用三路浮子供氣系統(tǒng)，Z高溫度可以達到1700°C，真空度...
PECVD管式爐 參考價：面議
OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統(tǒng)。此套設備帶有500W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管...
三溫區(qū)1500oC PECVD管式爐 參考價：面議
OTF-1500X-80-III-4CV-PE是一款三溫區(qū)1500℃的PECVD管式爐系統(tǒng)，它是由500W的射頻電源，1500℃三溫區(qū)管式爐、多通道質子混氣系統(tǒng)...
PECVD管式爐（小型滑動） 參考價：面議
OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition） （等離子體化學...
4路質子混氣管式PECVD系統(tǒng) 參考價：面議
4路質子混氣管式PECVD系統(tǒng)為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）， ...
OTF-1100X11Z3LV CVD 參考價：面議
OTF1100X11Z3LV CVD systemconsists of 11" diameterthree zone tube furnace with m...
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