熱噴涂鍍膜設(shè)備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內(nèi)，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團(tuán)或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結(jié)法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產(chǎn)。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復(fù)雜，特別是在合金靶材的生產(chǎn)中，成分不*均勻。
靶材的大尺寸和高利用率是涂層領(lǐng)域的新趨勢(shì)，熱噴涂鍍膜設(shè)備等離子噴涂的諸多特點(diǎn)顯示出其在生產(chǎn)大尺寸、高利用率靶材方面的*優(yōu)勢(shì)。
1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點(diǎn)粉末材料，可根據(jù)工件表面性能要求制備各種性能的涂層；
2、結(jié)果表明，高速等離子射流可使粉末獲得更大的動(dòng)能和更高的溫度，涂層與基體的結(jié)合強(qiáng)度高；
3、為近凈形制備方法，可節(jié)省材料，特別適用于貴金屬涂層和靶材的制備；
4、通過真空密封、還原氣體和惰性氣體保護(hù)，可獲得含氧量低、雜質(zhì)少的涂層；
5、采用高能等離子噴涂設(shè)備，粉末沉積速率高，沉積速率快??，可獲得厚涂層，是制備濺射靶材的重要保證。
以熱噴涂管靶材為例，靶材微觀結(jié)構(gòu)為圓餅狀扁平細(xì)晶粒，晶粒取向平行于旋轉(zhuǎn)軸方向。靶材中存在大量微米級(jí)孔洞，靶材整體孔隙率在5%~15%之間。多孔結(jié)構(gòu)易吸附雜質(zhì)和水分，影響濺射過程中高真空的快速獲得和真空度的穩(wěn)定性，濺射過程中靶材濺射表面的高溫使顆粒松散滴，污染基材表面，影響涂層質(zhì)量和涂層產(chǎn)品的合格率。
目前，熱噴涂鍍膜設(shè)備激光熔覆是解決等離子濺射靶材密度差問題的主要方法。當(dāng)然，隨著新型噴涂設(shè)備的引進(jìn)，涂層的致密性也越來越好。另外，如果在大氣環(huán)境中噴涂靶材，靶材表面與空氣中的O2、N2等氣體接觸時(shí)會(huì)產(chǎn)生大量的氧化物和氮化物雜質(zhì)。即使是真空等離子噴涂技術(shù)也不能*避免合金靶材中氧化物和氮化物的產(chǎn)生。因此，濺射靶材表面的吸附氣體必須在濺射前通過隔離的前級(jí)泵去除。
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