一、設備基本原理與特點

1. 基本原理

V2GR20-真空石墨爐該真空爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐，在抽真空狀態(tài)下，石墨電阻產(chǎn)生熱量，使爐腔內(nèi)產(chǎn)生高溫，通過熱輻射傳導到材料上，適用于科研、*對難熔合金如鎢、鉬及其合金的粉末成型燒結(jié)。主要應用于陶瓷、硬質(zhì)合金、復合材料等在真空或保護氣氛中高溫燒結(jié)，也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。

2.V2GR20-真空石墨爐設備特點

1) 采用臥式、側(cè)開門結(jié)構(gòu)：裝、卸物料精度高，操作方便；

2) 升溫快：升溫速率1~15℃/分鐘（≤1600℃），升溫速率1~5℃/分鐘（＞1600℃）；

3) 溫度均勻性好：平均溫度均勻性為±5℃（5點測溫，恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測）；

5) 安全性能好：采用HMI+PLC+PID壓力傳感控制，安全可靠；

二、主要技術(shù)參數(shù)