*MYCRO掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)，包含EM-5026M1， EM-5086， EM-5026B，EM-5026AM四個型號，是的光刻系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；并且該系列的掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)已經(jīng)被眾多*企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，作為他們光刻系統(tǒng)的*；其優(yōu)秀的技術(shù)、*的工藝和良好的服務(wù)，贏得了廣大用戶的青睞。
作為光刻系統(tǒng)，zui重要的技術(shù)在于以下兩個方面：掩模-晶圓片對準(zhǔn)，以及將掩模版上的圖案復(fù)制到晶圓片上，為下一步進(jìn)行可是或者離子注入工序做好準(zhǔn)備。
MYCRO/光刻系統(tǒng)的曝光方式，是采用可調(diào)節(jié)壓力的接觸式曝光，有效降低了光刻膠對掩模版的污染以及掩模版的磨損，從而提高掩模版的壽命。因此，MYCRO紫外曝光機(jī)/光刻系統(tǒng)以其*的性價比而讓人印象深刻。
/光刻系統(tǒng)的組件主要包含：
紫外光源構(gòu)造
帶托盤的晶片工作臺
配CCD鏡頭的顯微鏡
監(jiān)視器
掩膜夾具
紫外光源透鏡
紫外光源鏡片
紫外燈電源系統(tǒng)
操作控制器
350W紫外燈
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