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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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光刻机分为半自动和全自动两大系列。SMA-600M是用于研发和多产品生产领域的手动掩模对准仪，采用清晰的光学系统和*非接触式校准单元。通过接触或接近模式可以曝光到Z大φ150mm的晶片。它是曝光工艺中Z适合用于各种电子设备的系统，例如LD，LED等化合物半导体，以及包括压力传感器等在内的微型机械的制造工艺。
二、技术参数：
1、光掩模的尺寸：5英寸Z大；
2、晶片大?。篫高4英寸(无定形)；
3、掩模架滑动：手动卡盘；
4、模板移动：X=±3mm, Y=±3mm；
5、曝光方法：支持接近式曝光，各种接触式（软接触/硬接触/间隙印刷/真空接触/低真空接触）曝光；
6、照明：250W超高压水银灯
7、照明不均匀性：±5%
8、有效接触面积：直径o100毫米
9、分辨率：3mµL/S
10、对齐方法：通过摄像头查看
11、对齐物镜：10 x(上/下)
12、总放大倍率：100 x
13、物镜分离：15˜90毫米
14、对准范围：X,Y=±4毫米
15、对准间隙：99年09年µm
16、对准精度：小于±5毫米
17、主机电源：100-200交流，50/60Hz, 15A (600W)
18、氮气：0.4˜0.5 Mpa
19、真空压力：小于21.3kPa(大气压-80kPa)
三、产品特点：
用于研发，多产品生产领域
技术的前沿
采用*非接触式校准系统
校准时不会损坏掩模和晶圆
间隙精度的显着提高
基于“辅助线”的高精度对准是可能的
