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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

注射泵

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    耗材

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
    編:
    個(gè)化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://www.cylcaiwu.com/st119375/
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    [供應(yīng)]FFR-uProbe-FFR-uProbe微米級(jí)薄膜表征
    FFR-uProbe-FFR-uProbe微米級(jí)薄膜表征
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時(shí)間:
    2025-05-15 09:23:05
    有效期:
    2025年5月15日--2025年11月15日
    已獲點(diǎn)擊:
    72
    【簡(jiǎn)單介紹】FFR-uProbe是涂層表征應(yīng)用的解決方案,要求光斑尺寸小*小微米,例如微圖案表面,具有不規(guī)則表面的樣品,其表現(xiàn)出高水平的散射光和許多其它。使用FR-uProbe,在UV / Vis / NIR上的局部薄膜厚度,光學(xué)常數(shù),反射率,透射率和吸光度測(cè)量只需點(diǎn)擊即可。
    【詳細(xì)說(shuō)明】

    FR-uProbe,簡(jiǎn)單地連接到大多數(shù)商用光學(xué)顯微鏡的C接口適配器,并提供:

    o實(shí)時(shí)光譜測(cè)量

    o薄膜厚度,光學(xué)性能,非均勻性測(cè)量

    o使用集成的USB連接和高質(zhì)量彩色相機(jī)進(jìn)行成像

    o顯微鏡本身的性能不受影響

    工作原理

    白光反射光譜(WLRS)測(cè)量在一定波長(zhǎng)范圍內(nèi)從薄膜或多層疊堆反射的光量,入射光垂直于(垂直于)樣品表面。

    通過(guò)來(lái)自界面的干涉產(chǎn)生的測(cè)量的反射光譜用于確定自支撐和支撐(在透明或部分/全反射基板上)薄膜堆疊的厚度,光學(xué)常數(shù)(nk)等。

     

    應(yīng)用

    o大學(xué)和研究實(shí)驗(yàn)室

    o半導(dǎo)體(氧化物,氮化物,硅,抗蝕劑等)

    o MEMS器件(光刻膠,硅膜等)

    o LED

    o數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

    o陽(yáng)極氧化

    o彎曲基板上的硬/軟涂層

    o聚合物涂料,粘合劑等

    o生物醫(yī)學(xué)(聚對(duì)二甲苯,氣球壁厚等)

     

    特征

    o   單擊分析(無(wú)需初始猜測(cè)

    o   動(dòng)態(tài)測(cè)

    o   集成USB

    o   保存視頻進(jìn)行演示

    o    350+不相同的材料

    o    3年免費(fèi)軟件更新

    o   Windows 7/8/10上運(yùn)行



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