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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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SCE-1414Anatech 铝制等离子表面处理机 简单介绍：MYCRO的SCE系列铝制反应舱等离子体系统是该领域的产品。我们的Anatech 铝制等离子表面处理机无论是做研发还是大规模生产，总有一款SCE系列系统可以满足需要。就设备设计、质量或是交货灵活性、经济型等离子体系统等方面而言，没有公司与之相提并论。 产品型号：SCE-1414 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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PDC-32G-2Harrick小型等离子刻蚀机 简单介绍：Harrick小型等离子刻蚀机是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 产品型号：PDC-32G-2 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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WS-650MZ-23NPPB/OND美国Laurell匀胶机650-23NPPB 简单介绍：美国Laurell匀胶机650-23NPPB系列匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺。 产品型号：WS-650MZ-23NPPB/OND 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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WS-650HZ-8NPPB/UD3BLaurell匀胶机650-8NBPP 简单介绍：Laurell匀胶机650-8NBPP（英文名：Spin Coater）适合半导体硅片的匀胶镀膜 详细介绍：匀胶机（英文名：Spin Coater& Spin Processor） 行业俗称：匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机、镀膜机、涂层机 产品型号：WS-650HZ-8NPPB/UD3B 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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WS-650MZ-8NPPB/OND美国Laurell匀胶机650 简单介绍：美国Laurell匀胶机650（英文名：Spin Coater）适合半导体硅片的匀胶镀膜 详细介绍：匀胶机（英文名：Spin Coater& Spin Processor） 行业俗称：匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机、镀膜机、涂层机 产品型号：WS-650MZ-8NPPB/OND 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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PDC-002Harrick 氧等离子表面处理仪 简单介绍：Harrick 氧等离子表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 Harrick 等离子体表面处理仪短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉。 产品型号：PDC-002 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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PDC-002-HPHarrick小型等离子清洗机HP 简单介绍：Harrick小型等离子清洗机HP是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 产品型号：PDC-002-HP 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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EHP-1000-2EMS加热板/烤胶机 简单介绍：EMS加热板/烤胶机（英文名：Hot Plate）又名烘胶台，烤胶台，加热平台，烤胶板，热台，热板等用途可在光刻工艺中的涂胶后的软烘，暴光后烘，显影后的坚膜，磨片粘片熔腊等，它采用整体铸造，加热板作为加热体，增强了设备的安全性。 产品型号：EHP-1000-2 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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EHP-1000-1EMS加热板 简单介绍：烤胶机（英文名：Hot Plate）又名烘胶台，烤胶台，加热平台，烤胶板，热台，热板等用途可在光刻工艺中的涂胶后的软烘，暴光后烘，显影后的坚膜，磨片粘片熔腊等，它采用整体铸造，加热板作为加热体，增强了设备的安全性。 产品型号：EHP-1000-1 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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EDC-650Hz-8NPPBLaurell匀胶显影机EDC 简单介绍：Laurell匀胶显影机EDC产于美国，是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚，成立于1985年，是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各类显影系统，目前客户已遍布?；褂蠾S-1000湿法刻蚀设备，WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。 产品型号：EDC-650Hz-8NPPB 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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美国硼酸片 简单介绍：硼酸片常规尺寸和重量现货供应。作为防腐剂和杀菌剂用于医药领域。硼酸片还充当助磨剂在光谱领域。在许多应用中的硼酸降低成本开放的可能性，在其他许多领域片剂的优点尚未得到充分利用。片剂的成本已节省了许多倍，通过除去称重和配药的费用，消除了粉尘，简化解决准备方案，并允许自动进料和计量。潜在的应用包括： 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-01 |
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081160美国Cargille光学凝胶081160 简单介绍：Cargille 光学凝胶081160适用于BK7玻璃。 产品型号：081160 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-01 |
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美国Cargille激光液 简单介绍：订制光学混合液体成想要的规格：折射率，波长，温度，用在激光和其他专业的光学应用上。激光液体也用于定制混合折射仪校准液。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-01 |
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nD:1.300-1.780折射率匹配液 简单介绍：Cargille Laboratories, Inc. 自1942年创立以来一直处于高速成长，今天已成为世界上提供折射率指数油Z大Z有影响力的公司。 美国的Cargille 折射率匹配液已经成为各行各业实验室用来鉴定的标准工具，从矿质确认到生产质量控制，新的更广的应用在化学，工程，医学，医疗，光学，等领域不断被发现。 产品型号：nD:1.300-1.780 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-01 |
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Cargille显微镜浸油选购指南 简单介绍：美国Cargille公司的浸油是满足美国FDA标准的浸油产品，所有的Cargille浸油产品均满足DIN 58884标准要求。这是*的、不可替代的。目前共有9中型号可供选择，分别是：A型、B、型、300型、37型、NVH型、OVH型、LDF型、FF型、HF型。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-01 |
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PDC-FMG-2Harrick 气体流量控制器 简单介绍：Harrick 气体流量控制器主要应用于处理气体的精密控制、在等离子清洗过程中气体流混合和真空舱内压力监控。 产品型号：PDC-FMG-2 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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PDC-32G-2Harrick等离子清洗机 简单介绍：Harrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 Harrick 等离子体表面处理仪短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉. 产品型号：PDC-32G-2 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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EDC-650Hz-23NPPBEDC湿法刻蚀显影机 简单介绍：EDC湿法刻蚀显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。 产品型号：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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WS-650HZ-23NPPBLaurell匀胶机650-23NPPB 简单介绍：Laurell匀胶机650-23NPPB系列特色： ◆ 科研制备理想的匀胶机； ◆ 匀胶机由NPP或Teflon材质构造； ◆ 匀胶机分为150毫米，200毫米和300毫米三种腔体大小； ◆ 匀胶机可选择台式，立式和特殊环境内置式不同外形； ◆ 匀胶机的Z大转速可达10000RPM； ◆ 易编程的数码控制器（400/500型控制器）； ◆ 可升级成为自动滴胶型匀胶机； 产品型号：WS-650HZ-23NPPB 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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