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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻胶 简单介绍：SU-8 3000是一种高对比度，基于环氧的光刻胶，专为微加工和其他微电子应用中， 需要化学和热稳定的图像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改进配方，已被广泛采用 由MEMS生产商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附着力和降低涂层应力。 SU-8 3000的粘度范围允许膜厚为4至单层涂层厚度为120 µm。 产品型号：3010/3005/3025/3050 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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2005/2010/2025光刻胶SU-8 2000 简单介绍：SU-8 2000是一种高对比度，基于环氧的光致抗蚀剂，设计用于微加工和其他微电子应用，需要厚，化学和热稳定的图像。 SU-8 2000是SU-8的改进配方，多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥，极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。 SU-8 2000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。 产品型号：2005/2010/2025 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Model18美国Jelight紫外臭氧清洗机 简单介绍：Jelight紫外臭氧清洗机是一种快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）的目的。是清除硅、砷化镓、石英、蓝宝石、玻璃、云母、陶瓷、金属等表面有机污染物的较安全、较有效的方法。 除清洗外，Jelight紫外臭氧清洗机还可用于表面改质，如通过紫外处理后，涂层与表面的粘附力可大大增加，可用于生物芯片制作过程中PDMS键合 产品型号：Model18 所在地：国外 更新时间：2025-07-01 |
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byko-drive XLbyko-drive XL自动涂膜器 简单介绍：byko-drive XL自动涂膜器的设计灵活，可用于涂布涂料和油墨。干膜外观受涂布速度和施加在涂膜器上的压力影响。该涂膜器的速度调控范围为5-500 mm/s，标准的增幅为1mm/s。将可互换的重物在涂膜器的整个工作长度上施压，以获得*的涂膜厚度。推杆可与各种尺寸的线棒涂膜器、条形涂膜器、框架式涂膜器和涂膜刀配合使用。 该涂膜器带触摸显示屏，可方便地设置操作参数：移动速度、开始位置和行程长度。 产品型号：byko-drive XL 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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byko-drivebyko-drive自动涂膜器 简单介绍：byko-drive自动涂膜器是一款经济型的涂膜器，可以提高拖拉涂膜的稳定性。当多个操作者涂布相同的油漆或油墨时，由于拖拉技术不同，干膜外观也不一样。拖拉速度和施加在 涂膜器上的压力影响结果。不同的拖拉技术会带来膜厚、光泽、不透明度和颜色等的变化。 byko-drive附带真空泵和带夹子的玻璃板?？墒褂锰跣瓮磕?器、U型涂膜器、框架式涂膜器、涂膜刀和线棒等涂膜器。byko-drive设计非常紧凑， 产品型号：byko-drive 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Solaris 150UV快速退火炉 简单介绍：美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%，处理的大尺寸可以达到200mm，温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，做多可支持4~6路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。 产品型号：Solaris 150UV 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Solaris Eclipse快速退火炉系统SS 简单介绍：快速退火炉系统SSI是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火（RTA），（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。 产品型号：Solaris Eclipse 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Solaris 100 /150/200SSI快速退火炉 简单介绍：SSI快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火（RTA），（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。 产品型号：Solaris 100 /150/200 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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美国Futurrex光刻胶 简单介绍：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。 产品型号： 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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PR3、PR41Futurrex去胶液 简单介绍：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。 产品型号：PR3、PR41 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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RD3、RD6美国Futurrex显影液 简单介绍：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。 产品型号：RD3、RD6 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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mr-I 7000E、mr-I 8000E德国Micro Resist纳米压印胶 简单介绍：德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。 产品型号：mr-I 7000E、mr-I 8000E 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist电子束及深紫外光刻胶 简单介绍：德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。 产品型号：ma-N 2400、mr-EBL 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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PR1系列Futurrex紫外正性光刻胶 简单介绍：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。 产品型号：PR1系列 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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NR9-P、NR9G-P、NR5Futurrex紫外负性光刻胶 简单介绍：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。 产品型号：NR9-P、NR9G-P、NR5 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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SE200/SE300/SE350/SE500光谱椭偏仪 DUV-VIS-NIR 简单介绍：光谱椭偏仪可配置从DUV到NIR的波长范围。DUV范围可用于测量超薄膜，如纳米厚度范围。比如硅晶片上的原生氧化物，其通常仅为约1至2nm厚。当用户需要测量许多材料的带隙时，深紫外光谱椭偏仪也是*的。可见或近红外范围用于测量相对厚或非常厚的涂层。 产品型号：SE200/SE300/SE350/SE500 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Exguide FOWG-RIChemOptics固化树脂 简单介绍：Exguide FOWG-RI系列树脂材料是基于丙烯酸酯的光活性UV固化树脂，它们适用于柔性光波导器件中的应用。使用Exguide FOWG-RI树脂的UV固化技术由于其用于波导图案化的无光刻和干法无蚀刻工艺而具有简化光波导器件制造的良好优点。 产品型号：Exguide FOWG-RI 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Exfine CO-RIChemOptics固化树脂 简单介绍：Exfine CO-RI系列固化树脂和Expattern NIP系列固化树脂， Exfine CO系列固化树脂是基于各种多功能丙烯酸酯的光活性UV固化树脂，特别是它们非常适用于UV压印光学元件制造，例如微透镜阵列，DOE和具有UV压印技术的双凸透镜。 产品型号：Exfine CO-RI 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Expattern NIPChemOptics印迹树脂 简单介绍：Expattern NIP系列印迹树脂采用UV纳米压印技术开发用于纳米尺寸图案制作。 产品型号：Expattern NIP 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Exfix ZAP-1020ChemOptics粘合促进剂 简单介绍：Exfix ZAP-1020粘合促进剂是一种促进聚合物涂层附着力的添加剂，该粘合促进剂由可UV固化的硅烷化合物组成，并且与市售的可UV交联的单体和聚合物相容。 产品型号：Exfix ZAP-1020 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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