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貨物所在地：山東濟寧市
更新時間：2025-03-06 21:00:07
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半導(dǎo)體超聲波清洗機概述：
該設(shè)備用于晶片的清洗處理。該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設(shè)備水平。
主要特點：
采用進口PP板制作。
適用MESA*SC晶片清洗。
超聲功率強勁，性能穩(wěn)定。
采用進口超聲波電源。
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