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基于285nm二氧化硅基底的單層氮化硼薄膜

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更新時間：2025-05-07 11:44:10瀏覽次數(shù)：1382

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產(chǎn)品簡介

供貨周期 一周    
Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates （p-doped）, 1cmx1cm: 4 pack
Properties of BN film
97% coverage with minor holes and organic residues
High Crystalline Quality

詳細(xì)介紹

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack

Properties of BN film

97% coverage with minor holes and organic residues

High Crystalline Quality

The Raman spectrum should peak at ~1369cm-1

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack

Properties of BN film

97% coverage with minor holes and organic residues

High Crystalline Quality

The Raman spectrum should peak at ~1369cm-1

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack

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High Crystalline Quality

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