QLED量子點(diǎn)

特制紅/綠/藍(lán)QLED量子點(diǎn)溶液

濃度：~20mg/ml，溶劑：正辛烷（可定制不同溶劑、濃度）

直接用于旋涂工藝

ZnMgO

納米粒子

濃度：~30mg/ml，溶劑：乙醇

成膜效果好，材料穩(wěn)定

HIL/HTL

材料

HIL：固含量：~1.5%

HTL：固含量：~1.2%

量子點(diǎn)

墨水

固含量：~2.0%，黏度（25℃）：6.0-15.0CP，表面張力（25℃）：25.0-35.0mN/m

打印流暢，不堵噴頭，易清洗；成膜光滑，不變形

可根據(jù)客戶(hù)要求開(kāi)發(fā)定制

QLED

制備實(shí)踐

資深器件工程師一對(duì)一指導(dǎo)

實(shí)踐QLED制備工藝全部流程：ITO基板清潔處理—空穴注入層、空穴傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、電子傳輸層的旋涂及后處理—電極蒸鍍—器件封裝—性能表征