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日立分析仪器(上海)有限公司

化工仪器网>产品展厅>分析仪器>光谱>其它光谱仪>XAD-μ-wafer 能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF

XAD-μ-wafer 能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF

参考价500000.00
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 深圳市恩阳电子有限公司
  • 品牌其他品牌
  • 型号XAD-μ-wafer
  • 所在地深圳市
  • 厂商性质经销商
  • 更新时间2025/7/31 8:34:56
  • 访问次数 83
规格
500000.00元100 件可售

联系方式:吴先生查看联系方式

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


深圳市恩阳电子有限公司是一家集X荧光光谱仪(RoHS检测仪,膜厚测试仪)维修、卤素升级、光谱仪买卖租赁及仪器数据校正为一体的综合性服务企业。公司成立于2012年10月,坐落于深圳市松岗镇。公司本着“客户至上、高效快捷、诚信务实、价格合理”的经营合作理念,为您提供快速优质的技术服务。深圳恩阳电子有限公司由资深原各大仪器厂商技术专家和营销精英组建,目前已经与众多优秀的企业合作,致力打造X荧光光谱仪*质的服务平台!

深圳市恩阳电子供应二手天瑞仪器,二手Fisher仪器。XULM,EDX1800/EDX2800/EDX3000C型和EDX3000B型等设备,成色新,能应付公司工厂的ROHS品质筛选,并可长期/短期审厂租赁,能检重金属,卤素,镀层分析,玩具指令等。为你的生产保驾护航

 

 

ROHS检测仪器,膜厚测试仪器,X射线仪器维修,仪器租赁等

应用领域 化工,电子/电池,钢铁/金属,航空航天,电气

能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF

能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF是一款专用于超小测量点或极薄涂层的分析测量的仪器,在柔性电路板、芯片封装环节、晶圆微区的镀层厚度和成分自动测试分析中尽显优势。

可以测量微电子设备、高级线路板、连接器、引线框架和晶片的超微小区域。

 

1)搭载微聚焦加强型X射线发生器及多导毛细管技术,测量直径可小至10μm

2)全景+微区双相机设计,观察样品更为全面,微区小至微米级别的分辨率,实现更快速便捷的测试

3)基于EFP算法的新一代膜厚测量软件EFP-T,支持基于标样的定量分析,支持无标样定性分析,可同时分析23个镀层,24种元素

4)大面积高分辨率Dpp+Fast SDD探测器,优于125eV

5)测量元素范围:铝Al(13)-铀U(92)

6)涂镀层分析范围:锂Li(3)-铀U(92)

7)安全互锁、防夹手及Z轴防碰撞设置,V区激光?;ぃ;げ饬客返耐?,测量距离,可测样品类型范围更广

配备全自动可编程移动平台,可实现无人值守,对成百上千个样品进行全自动检测

能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF

行业应用:Bumping(Solder Bump- Ag含量检测)

Flip-Chip是优良封装最大市场,Bumping是其主要的工艺,显著提高集成密度。目前,头部晶圆制造厂将Bump Pitch推进至10μm以下,国内大封装厂挺近40μm。

Bumping/μ-Bumping,(微)凸块制造技术是倒装等发展演化的基础工程,并延伸演化出TSV、WLP、2.5D/3D、MEMS等封装结构与工艺,广泛应用于5G、人工智能、云计算、可穿戴电子、物联网、大数据处理及储存等集成电路应用中。

锡银凸块制程中,无铅焊锡:锡银Sn-Ag, 锡银铜Sn-Ag-Cu作为无铅焊锡广泛使用在PCB, Bump上。针对无铅焊锡凸块(Lead Free solder Bump)其中银的浓度大小将直接影响焊锡的熔点和质量,因此在焊锡的质量管理中银含量的浓度要求是十分严格的。而凸块的面积很小, 在常规XRF小样品小准直器光通量小下,不能精准分析其中的Ag含量,很难实现对产品工艺实时优化。

能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF

行业应用:金属薄膜沉积厚度及成分检测(PVD/CVD)

芯片是由一系列有源和无源电路元件堆叠而成的3D结构,薄膜沉积是芯片前道制造的核心工艺之一。从芯片截取横截面来看,芯片是由一层层纳米级元件堆叠而成,所有有源电路元件(例如晶体管、存储单元等)集中在芯片底部,另外的部分由上层的铝/铜互连形成的金属层及各层金属之间的绝缘介质层组成。

薄膜的制备需要不同技术原理,因此导致薄膜沉积设备也需要不同技术原理,物理/化学等不同沉积方法相互补充。

薄膜沉积工艺主要分为物理和化学方法两类

1)物理方法:指利用热蒸发或受到粒子轰击时物质表面原子的溅射等物理过程,实现物质原子从源物质到衬底材料表面的物质转移。物理方法包括物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)、旋涂、电镀(Electrondeposition/Electroplating,ECD/ECP)等

2)化学方法:把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸汽,以合理的气流引入工艺腔室,在衬底表面发生化学反应并在衬底表面上沉积薄膜?;Х椒òɑ喑粱–hemical Vapor Deposition,CVD)和外延(Epitaxy,EPI)等,

PVD主要用来沉积金属及金属化合物薄膜,最主要用于金属互连籽晶层、阻挡层、硬掩膜、焊盘等。磁控溅射PVD主要用于Al金属籽晶层、TiN金属硬掩膜。磁控溅射PVD中的磁控DCPVD是应用广泛的沉积方式,特别是对于平面薄膜的沉积,比如Al互连的金属层,但在Cu互连(CuBs)中应用减少,32nm以下的TiN硬掩膜又开启了这类技术的新应用。离子化PVD主要用于Al的阻挡层、CuBs中的阻挡层和籽晶层,也可以和金属CVD结合用于沉积钨栓塞中的Ti粘附层。

CVD常用于沉积绝缘介质薄膜,用于前段的栅氧化层、侧墙、阻挡层、PMD等领域和后段的IMD、Barc、阻挡层、钝化层等领域,另外CVD也可以制备金属薄膜(如W等)。

XAD-μ-wafer搭载一六仪器国产自研的多导毛细光学系统,同时能够提供小至10μm的光斑、上千倍的强度增益,可以解决Au、Ag、Al、Ti/TiN、V、Ni、W、Cu、Mo镀层精准测试,常规金属薄膜厚度检出限可至1nm。

 

能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF

能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF

能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF

 

EFP软件操作界面截图:

1. 清晰化操作界面布局

    简约的布局设计,可令操作员快速的掌握软件基本操作。

2. 程式快捷键按钮设计

增加了日常镀层程序快捷键设计按钮,无需进入程序库挑选,便可快速检测,提升工作效率。

3. 高清全景微区可视化窗口

   可以清晰直观的观测到被检测样品的状态,通过变焦调节旋钮,达到用户理想的观测效果。

4. 仪器数据实时监测数据汇总

可一目了然的观测到仪器所有数据,有任何异常,系统都将第一时间提醒,大大降低操作失误。

 

 
产品名称 能量色散X荧光光谱仪 多导毛细聚焦XRF
产品型号 XAD-μ-wafer
测量元素范围

Al(13)- U(92)

涂镀层分析范围

Li(3)- U(92)

EFP算法

标配

分析软件

同时分析23个镀层,24种元素

不同层相同

元素检测能力

标配

软件操作

基于新一代的EFP算法,人性化封闭软件,自动判断故障提示校正及操作步骤,避免误操作

X射线装置

微聚焦加强型射线管,靶材可选:Mo、Rh、Cr、W

探测器

DPP+Fast SDD探测器70mm²

毛细聚焦光学器件

标配15μm FWHM(选配5-100μm)

滤光片

8种滤光片切换装置

放大倍数

广角+微区相机(光学放大330倍,数字放大1-6倍)

Z轴移动范围

依样品定制,适配行程可>100mm

样品台移动方式

全自动高精密XY平台

样品台行程

300*300mm(可定制600*600mm)

其他附件

电脑一套、打印机、附件箱、十二元素片(可选配定制晶圆转运器、寻边器、真空吸附装置等)

X射线标准

DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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