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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>工艺测量和检测设备>关键尺寸测量设备> 晶圆厚度/电阻率/PN掺杂型测量仪 MX6012

晶圆厚度/电阻率/PN掺杂型测量仪 MX6012

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 那诺中国有限公司
  • 品牌
  • 型号
  • 产地
  • 厂商性质 生产厂家
  • 更新时间 2025/7/28 23:49:09
  • 访问次数 52

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那诺中国有限公司专注于为大中华区域(包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾)的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。


那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备(包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等)。


那诺中国提供英国KORE基于飞行时间的质谱仪,包含飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、质子转移反应(PTR)质谱仪、电子轰击电离(EI)质谱仪等。





ALD,PECVD,RIE,磁控溅射,热蒸镀,电子束,离子束,晶圆清洗机,PA-MOCVD,飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)

晶圆厚度/电阻率/PN掺杂型测量仪 MX6012是一款非接触式晶圆厚度测量仪器,可以用于表征晶圆的厚度、TTV、电阻率、P/N掺杂类型,是一款综合型的测量设备。该型号测量仪适用于200mm和300mm的硅片。

晶圆厚度/电阻率/PN掺杂型测量仪 MX6012

晶圆厚度/电阻率/PN掺杂型测量仪 MX6012专为硅片性能表征而设计,集成了非接触式厚度测量、电阻率检测及 P/N 型掺杂识别传感器。除中心测量点外,每半次扫描范围内最多可设置 15 个附加测量点。设备支持选配 90° 旋转后重复扫描功能,确保测量全面性。通过串行接口实现与 PC 的数据通信,配套提供功能强大的 MX-NT 操作软件。该系统可无缝集成于自动化机器人分选系统中,提升产线智能化水平。


操作原理与机械结构

该测量仪为一款紧凑型台式设备,专用于对硅片厚度及电阻率进行非接触式测量。测量过程中,硅片将自动传送至仪器内部。在传送路径上,依次经过两个电阻率传感器和一个厚度传感器,系统可在硅片中心及由测量配方预设的多个位置进行采样,横向分辨率达1毫米。硅片可实现自动翻转,最多支持18次扫描。在顶部指定位置,通过非接触式P/N型传感器对掺杂类型进行判定。测量所得数据经由仪器串行接口传输至Windows计算机,由配套软件进行数据处理与结果显示。该软件同时支持批次数据管理及报告打印功能(详见MXNT说明文档)。


晶圆厚度/电阻率/PN掺杂型测量仪 MX6012


测量原理

厚度:电容式传感器

电阻率:涡流原理

掺杂类型:表面光电压系统


主要技术参数

晶圆尺寸:200mm,300mm

厚度:600-900μm

最大翘曲:100μm

电阻率:0.001 – 200 Ohm·cm

掺杂类型检测:0.020 – 200 Ohm·cm

软件:MXNT






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