JS-G2512 1200度25管式炉
参考价 | ¥11800.00 |
- 公司名称 天津市九所科技发展有限公司
- 品牌九所科技
- 型号JS-G2512
- 所在地天津市
- 厂商性质生产厂家
- 更新时间2025/7/9 13:48:04
- 访问次数 65
1200 | 11800.00元 | 10 台可售 |
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产地类别 | 国产 | 加热方式 | 电阻丝加热 |
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价格区间 | 1万-2万 | 控温精度 | ±1℃ |
内部尺寸 | 200mm | 升温速度(达到最高温) | 60/min |
仪器种类 | 管式炉 | 应用领域 | 环保,化工,能源,钢铁/金属,综合 |
最大功率 | 1.6kW | 最高温度 | 1200℃ |
1200度25管式炉
产品简介:
1200度25管式炉是一种广泛应用于科研、工业生产和材料加工领域的高温加热设备,其核心结构为水平或垂直布置的炉管,通过电阻丝、硅碳棒或硅钼棒等加热元件对炉管内部进行均匀加热。该设备以高温控制精度高、温度均匀性好、操作灵活等优势,成为材料热处理、化学合成、半导体制造等工艺的关键设备。
主要特点:
1.高温均匀性
通过优化炉管结构和加热元件布局,炉内温度均匀性可达±5℃(1200℃时),确保样品受热一致。
2.快速升降温
最高升温速率可达20℃/min,降温速率通过风冷或水冷系统控制,缩短实验周期。
3.安全防护
具备超温报警、漏电?;?、断偶?;さ裙δ埽糠中秃胖С衷冻碳嗫赜牍收险锒?。
应用领域
1.材料科学研究
高温烧结:陶瓷、金属粉末的致密化处理。
热处理:金属材料的退火、淬火、回火,改善力学性能。
催化剂制备:通过控温程序实现催化剂载体的负载与活化。
2.化学与能源领域
化学气相沉积(CVD):制备碳纳米管、石墨烯等纳米材料。
电池材料研究:锂离子电池正负极材料的合成与改性。
高温分解:生物质、废弃物的热解制氢或制油。
3.半导体与电子工业
晶体生长:硅、砷化镓等单晶材料的提拉法生长。
薄膜沉积:通过CVD或物理气相沉积(PVD)制备半导体薄膜。
器件退火:修复离子注入损伤,激活掺杂元素。
选型指南
1.温度需求
中温型(≤1200℃):适用于金属热处理、陶瓷烧结。
高温型(1200℃-1600℃):用于难熔金属、碳化物材料的合成。
超高温型(≥1600℃):满足半导体单晶生长、超硬材料制备需求。
2.炉管材质
石英炉管:透明可视,适用于需要观察反应过程的实验。
刚玉炉管:耐高温、耐腐蚀,性价比高。
金属炉管:适用于高压、高温或腐蚀性气氛。
3.气氛控制
开放系统:仅通入惰性气体,适用于一般热处理。
密闭系统:支持真空、高压或混合气氛,满足CVD、PVD等工艺需求。
操作与维护
1.操作流程
样品放置:将样品置于刚玉舟或石英舟中,推入炉管恒温区。
气氛设置:根据实验需求通入气体,调节流量与压力。
程序设定:输入目标温度、保温时间及升降温速率。
实验结束:待炉温降至100℃以下后取出样品,关闭气体与电源。
2.日常维护
定期清洁炉管内壁,避免杂质污染样品。
检查加热元件老化情况,及时更换损坏的电阻丝或硅碳棒。
校验热电偶与温控仪,确保温度测量准确性。