德国ADL离子源电源GG 12 Beam用于微电子
参考价 | ¥ 48000 |
订货量 | ≥1台 |
- 公司名称 北京汉达森机械技术有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2025/4/1 11:34:44
- 访问次数 405
联系方式:余新星18510938576 查看联系方式
联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!
供货周期 | 一个月以上 | 应用领域 | 生物产业,能源,电子/电池,电气,综合 |
---|
德国ADL离子源电源GG 12 Beam用于微电子
公司简介:
ADL Analoge & Digitale Leistungselektronik GmbH是一家开发和制造商,生产电源和发电机,以及用于特殊工业应用和研究机构的电力电子设备。
ADL 溅射技术在产品和镀膜设计方面拥有 30 多年的经验和专业知识。这种专业知识使 ADL 成为各种薄膜涂层合作伙伴 - 用于显示器、箔、玻璃、硬涂层、工具、装饰表面、微电子等等。
产品介绍:
离子源电源GG 12 Beam
产品特点:
在离子束和等离子体工艺技术中的广泛应用
蚀刻、溅射等等
创新应用,例如微电子、光学和传感器
工业生产领域
镀膜工艺:在光学镀膜、硬质涂层等工业镀膜过程中,ADL GG 12 Beam 为离子源提供稳定的电力,使离子能够均匀地轰击靶材,实现高质量的薄膜沉积。这种高质量的镀膜可以提高产品的耐磨性、耐腐蚀性、光学性能等,广泛应用于眼镜镜片、刀具、汽车零部件等产品的表面处理。
半导体制造:在半导体芯片制造过程中,用于离子蚀刻、离子注入等关键工艺。通过精确控制离子源的参数,实现对芯片结构的高精度加工和掺杂,确保芯片的性能和可靠性。例如,在芯片的光刻工艺之后,利用离子蚀刻技术可以精确地去除不需要的半导体材料,形成复杂的电路结构;而离子注入则可以精确地控制半导体中的杂质浓度,从而调节晶体管的性能。
型号列表:
GG 03 Accelerator 09Z001
GG 03.1 Accelerator 09Z002
GG 08 Accelerator 09Z005
GG 12 Beam 09Z011
GG 12.1 Beam 09Z012
德国ADL离子源电源GG 12 Beam用于微电子