NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统

四极杆质谱仪（Quadrupole Mass Spectrometer, QMS）在磁控溅射纳米颗粒尺寸控制中的应用主要体现在以下几个方面：

1.       实时监测与反馈：

o    QMS能够实时监测纳米颗粒的尺寸分布，通过质量过滤器按质量或直径实时扫描或过滤沉积的纳米颗粒，从而促进生长条件的优化。

o    通过调整工艺参数，如磁控溅射电流、结露区长度和气体流量等，可以精确控制纳米颗粒的尺寸。

2.       精确控制纳米颗粒尺寸：

o    在1-20 nm范围内调整纳米颗粒的尺寸分布，这对于许多应用领域（如生物医学、电子材料等）至关重要。

o    例如，在银纳米团簇的制备中，通过调节溅射电流和氩气流量，可以获得平均粒径为2, 4和6 nm的银纳米团簇。

3.       工艺参数的优化：

o    QMS可以与透射电子显微镜（TEM）等其他表征手段结合，对比在线和离线测量结果，确保纳米颗粒尺寸控制的准确性和一致性。

o    通过QMS的监测数据，可以优化工艺参数，如溅射电流、气体流量和结露区长度，以实现对纳米颗粒尺寸的精确控制。

4.       应用实例：

o    在等离子体气相凝聚技术中，QMS被用于在线测量银纳米团簇的粒径尺寸与分布，并与TEM离线测量值进行比对，验证了QMS在纳米颗粒尺寸控制中的有效性。

通过上述方法，NL-QMS能够有效地控制纳米颗粒的尺寸，满足不同应用领域对纳米颗粒尺寸的精确要求。

 NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统技术规格