1. 产品概述

Polaris系列 8英寸通用物理气相沉积系统

2. 设备用途/原理

Polaris系列 8英寸通用物理气相沉积系统，多种材料膜层工艺能力，低损伤，高深宽比填充能力，独立工艺腔室，多可支持 6 个工艺模块，优异的温度，颗粒控制能力，配置灵活、大产能、低运营成本。

3. 设备特点

晶圆尺寸 6、8 英寸，适用材料 银、钨化钛、金、铂、钛、氮化钛、铝、铬等，适用工艺 倒装工艺、金属电等，适用域 新兴应用、科研、化合物半导体。物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术， 物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。