日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A 特点介绍

全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。

干燥采用热纯水干燥，而不是传统的气刀干燥，并采用免调节设计，省去了水飞溅调节的麻烦。  热纯水干燥

对应的面罩尺寸，最多7英寸。专用盒最多可装20张。

日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A 规格参数

?轻松去除附着在掩模上的抗蚀剂

?轻松移除蒙版上的粒子

?清洗液开发对环境友好的温和的水溶性药液

?从热硫酸和硫酸过水等危险中解脱出来

?不需要昂贵的去除剂和显影液

用途：平板显示器，MEMS器件，精细图案PCB/FPC/TAB，化合物半导体，薄膜电子元件等。

TWC系列可同时去除附着在掩模上的抗蚀剂和颗粒。使用专用药液去除抗蚀剂和TW系列培养的颗粒去除技术，有助于提高口罩的清洁度。

全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。

干燥采用热纯水干燥，而不是传统的气刀干燥，并采用免调节设计，省去了水飞溅调节的麻烦。  热纯水干燥

对应的面罩尺寸，最多7英寸。专用盒最多可装20张。