DISC-RIE-601/801/1201 反应离子刻蚀机(RIE）
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 北京中科复华科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 DISC-RIE-601/801/1201
- 产地 北京
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2024/4/7 8:53:27
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应用方向：科研与教学
产品优势：刻蚀速率控制方便，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）
产品配置：
★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸
★刻蚀材料：包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等
★刻蚀腔体：高真空系统
★Load-Lock：低真空系统 或 高真空系统。双片装，样品自动运送。
★刻蚀不均匀性：±3%-±6%
★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）
★工作台：可升降，包含水冷
★电源配置：下电偏压，包含自动匹配
★气路数量与种类：6路气路，其中2路耐腐蚀VCR焊接 或 用户选配
★He冷背吹系统：可选配
★终点检测控制：可选配质谱仪
★操作模式：全自动+半自动控制
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