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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>光學(xué)測量儀>橢偏儀> ME-L 穆勒矩陣橢偏儀03090801

ME-L 穆勒矩陣橢偏儀03090801

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司—實(shí)驗(yàn)室整體建設(shè)解決方案集成者：
鴻瑞正達(dá)主要服務(wù)于高等院校、科研院所和研發(fā)企業(yè)，專注于科研領(lǐng)域，助力科研成果轉(zhuǎn)化。公司提供材料研究成套設(shè)備及整套解決方案，包括：高壓科學(xué)材料、金屬材料、電池研發(fā)、地質(zhì)地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領(lǐng)域的科研成套設(shè)備。

我們的服務(wù)理念是：讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，材料科學(xué)，質(zhì)譜儀，電化學(xué)，電池，催化

 

 

 

 

 

img1

 

產(chǎn)品簡介： ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入， 其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù)，包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。可應(yīng)用 于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu)，半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu)，新材料，新物理現(xiàn)象研究，平板顯示，光伏太陽能，功能性 涂料，生物和化學(xué)工程，塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維 /二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。

雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣 16 個元素；配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優(yōu)質(zhì)硬 件模塊，軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計，易上手、操作便捷；豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保 證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。

產(chǎn)品型號

ME-L 全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀

主要特點(diǎn)

1、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍img2(193-2500nm)

 

2、可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理，測量信息量更大，測量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn)

 

3、基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置， 可一次測量獲得全部穆勒矩陣的 16 個元素，相對傳統(tǒng)光譜

橢偏儀可獲取更加豐富全面的測量信息

 

4、頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜

 

5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料

 

6、集成對納米光柵的分析img3，可同時測量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙

度等幾何形貌信息

技術(shù)參數(shù)

1、應(yīng)用：科研級/企業(yè)級

 
2、基本功能： Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜

 

3、分析光譜： 380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-1650nm)

 

4、單次測量時間： 1-8s

 

5、重復(fù)性測量精度： 0.005nm

 

6、精度(直通測量空氣)

 

橢偏參數(shù): ψ=45±0.05°△=0±0.1°

 

穆勒矩陣:對角元素 m=1±0.005； 非對角元素 m=0±0.005

 

7、光斑大?。?/span> 大光斑 2-3mmimg4；微光斑 200 μm

可選配置

波段選擇

V:380-1000nm

UV:245-1000nm

XN:210-1650nm

DN+:193-2500nm

角度選擇

自動:45-90°

手動:55-75°(5°步進(jìn)),90°

固定:65°

其他選擇

Mapping 選擇:100×100mm(供參考,按需定制)

溫控臺:室溫一 600C(供參考,按需定制)

可選配件

1

溫控臺

2

Mapping 擴(kuò)展模塊

3

真空泵

4

透射吸附組件

 

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