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200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 賽默飛電子顯微鏡
  • 品牌 FEI/賽默飛
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/8/28 13:49:43
  • 訪問次數(shù) 1028

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FEI公司,2016年被賽默飛世爾科技收購,成為賽默飛材料與結構分析(MSD) 電鏡事業(yè)部,是顯微鏡和微量分析解決方案的創(chuàng)新者和供應商。 我們提供掃描電子顯微鏡SEM,透射電子顯微鏡TEM和雙束-掃描電子顯微鏡DualBeam FIB-SEM,結合先進的軟件套件,運用廣泛的樣本類型,通過將高分辨率成像與物理、元素、化學和電學分析相結合,使客戶的問題變成有效可用的數(shù)據(jù)。

掃描電子顯微鏡,雙束電鏡,透射電子顯微鏡,冷凍電鏡,X射線光電子能譜儀,三維可視化軟件

價格區(qū)間 面議 儀器種類 熱場發(fā)射
應用領域 環(huán)保,化工

200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM

用于高通量、高分辨率化學表征和動態(tài)觀察的 TEM 和 STEM 分析

主要特點

可搭配眾多高分辨率場發(fā)射槍 (FEG)

選擇 X-FEG、高亮度 X-FEG 或超高亮度冷場發(fā)射槍 (X-CFEG)。X-CFEG 將 (S)/TEM 成像及能量分辨率相結合。

可搭配雙 EDS 技術

從單個 30 mm2 檢測器到用于高通量(或低劑量)分析的雙 100 mm2 檢測器中,選擇您需求的 EDS 檢測器。

高質(zhì)量 STEM/TEM 圖像和準確的 EDS

創(chuàng)新且直觀的 Velox 軟件用戶界面非常簡單,從而輕松獲得高質(zhì)量的 TEM 或 STEM 圖像。Velox 軟件中的 EDS 吸收校正功能可實現(xiàn)最準確的定量。

的原位功能

添加斷層掃描或原位樣品架??焖贁z像機、智能軟件和我們的寬 X-TWIN 物鏡間隙可在盡可能不降低分辨率和分析功能的情況下實現(xiàn) 3D 成像和原位采集。

200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM提高了生產(chǎn)率

超穩(wěn)定的色譜柱、借助 SmartCam 的遠程操作和恒定功率物鏡,可進行快速模式和高電壓 (HT) 切換。多用戶環(huán)境的快速輕松切換。

可重復性最高的數(shù)據(jù)

所有日常 TEM 調(diào)整、例如聚焦、共心高度、電子束移位、冷凝器光闌、電子束傾斜樞軸點和旋轉中心都是自動進行的,確保您始終從最佳成像條件開始工作。實驗可重現(xiàn),使您可以專注于研究,而不是工具。

高速提供大視野成像

4k × 4k Ceta CMOS 攝像機及其大視野使得可以在整個高張力范圍內(nèi)以高靈敏度和高速進行實時數(shù)字縮放。

緊湊型設計

更小的占地面積和尺寸有助于在更具挑戰(zhàn)性的空間中使用此工具,同時降低基礎設施和支持成本。


性能數(shù)據(jù)

TEM
  • 線分辨率: ≤0.10 nm

操作 系統(tǒng)XX 單元
  • 控制器:Windows® 10

  • 遠程控制:是

真空系統(tǒng)
  • 氣鎖抽氣:無油和無振動

  • 冷阱:標準

  • 長時間杜瓦瓶:可選配 - 至少 4 天待機時間(重新補充之間)

STEM 成像
  • STEM 分辨率: ?

    • ≤0.16 nm (S-FEG/X-FEG)

    • ≤0.14 nm ,100pA (X-CFEG)

  • 檢測器: HAADF 和/或同軸 Panther BF/DF

能量色散 X 射線光譜 (EDS)
  • 檢測器尺寸 (Bruker X-flash):30、100 或 雙 100 mm2

  • 可伸縮: 是,電動

電子能量損失光譜 (EELS)
  • ≤0.8 eV (S-FEG/X-FEG)

  • ≤0.3 eV (X-CFEG)

槍亮度 200 kV
  • 4×108 A /cm2 srad (S-FEG)

  • 1.8×109 A /cm2 srad (X-FEG)

  • 2.4×109 A /cm2 srad (X-CFEG)





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