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ME-Mapping光譜橢偏儀

參考價(jià)600000-1000000/臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 武漢頤光科技有限公司
  • 品牌頤光科技
  • 型號(hào)
  • 所在地武漢市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2025/4/27 16:09:12
  • 訪問(wèn)次數(shù) 3418
產(chǎn)品標(biāo)簽

橢偏儀光譜橢偏儀膜厚測(cè)量

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       武漢頤光科技有限公司(Wuhan Eoptics Technology Co,Ltd)是國(guó)內(nèi)從事橢偏儀以及光學(xué)納米測(cè)量設(shè)備研發(fā)、制造與銷售的企業(yè)。公司由多位具有二十多年偏振光學(xué)測(cè)量經(jīng)驗(yàn)的專家聯(lián)合創(chuàng)辦,與華中科技大學(xué)緊密合作,現(xiàn)有員工80%以上擁有碩士或博士學(xué)位,是橢偏光學(xué)儀器領(lǐng)域非常有優(yōu)勢(shì)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。

       頤光科技注冊(cè)于武漢東湖國(guó)家自主創(chuàng)新示范區(qū),立足光谷,面向,為用戶提供光學(xué)散射測(cè)量?jī)x等系列產(chǎn)品,并提供儀器、軟件、服務(wù)等綜合解決方案。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路、半導(dǎo)體、光伏太陽(yáng)能、平板顯示、LED照明、存儲(chǔ)、生物、醫(yī)藥、化學(xué)、電化學(xué)、光學(xué)鍍膜和保護(hù)膜、減反膜、光刻材料等眾多領(lǐng)域。

      頤光科技充分利用武漢地區(qū)的交通便利和人才優(yōu)勢(shì),立志成為中國(guó)的光學(xué)儀器設(shè)備研發(fā)創(chuàng)新平臺(tái)和產(chǎn)業(yè)化基地,立志成為企業(yè)值得信賴的合作伙伴。

光譜橢偏儀,反射膜厚儀

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,航空航天,電氣,綜合

 

一、概述

     ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測(cè)量光譜橢偏儀,配置全自動(dòng)Mapping測(cè)量模塊,通過(guò)橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量,快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測(cè)量表征和分析。

 

■ 全基片橢偏繪制化測(cè)量解決方案;

■ 支持產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及功能模塊定制化,一鍵繪制測(cè)量;

■ 配置Mapping模塊,全基片自定義多點(diǎn)定位測(cè)量能力;

■ 豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù),保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。

二、產(chǎn)品特點(diǎn)

 

■ 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);

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■ 高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、PCRSA配置,實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集;

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■ 具備全基片自定義多點(diǎn)自動(dòng)定位測(cè)量能力,提供全面膜厚檢測(cè)分析報(bào)告;

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■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù),涵蓋了目前絕大部分的光電材料。

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三、產(chǎn)品應(yīng)用

 

      ME-Mapping廣泛應(yīng)用OLED,LED,光伏,集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實(shí)現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測(cè)量與表征。

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可選配件

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ME-L.png

真空泵 透射吸附組件

 

 

技術(shù)參數(shù)
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