名稱（Name）

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-VPO-4L-S

控制系統(tǒng)（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 3kw

中頻電源功率（RF Power）

1000W/40KHz/13.56MHz

容量（Volume ）

30L(Option)

層數(shù)（Electrode of plies ）

4(Option)

有效處理面積（Area）

200(L)*150(W)(Option)

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2

產(chǎn)品特點

超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行；

可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；

高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
 
應(yīng)用范圍

真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。

講述產(chǎn)生高密度等離子體的方法有很多種

等離子清洗機(jī)原理就是利用等離子的特性使用大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清(除)了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。要外加能量給電子，簡單的方法就是用平行電極板加一直流電壓，電子在電極中，會被帶正電的電極所吸引而加速，在加速的過程中電子可以累積能量，當(dāng)電子的能量達(dá)到某一程度時，就有能力來解離中性氣體原子，能產(chǎn)生高密度等離子體的方法有很多種。等離子體在低溫條件下能夠產(chǎn)生非平衡電子、反應(yīng)離子和自由基的特性。等離子體中的高能活性基團(tuán)轟擊表面，會造成濺射、熱蒸發(fā)或光致降解。等離子體*的清洗過程主要是基于等離子體濺射和刻蝕所帶來的物理和化學(xué)變化。

物理濺射的過程中，等離子體中高能量離子脈沖式的表面轟擊會導(dǎo)致表面原子發(fā)生位移，在某些情況下，還會造成次表層上原子的移位，因此物理濺射沒有選擇性。在化學(xué)刻蝕的過程中，等離子體中的活性基團(tuán)和表面原子，分子發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)可以通過泵抽走。在等離子刻蝕過程中，通過選擇不同的工藝參數(shù)，可以對不同材料實現(xiàn)高選擇性的化學(xué)反應(yīng)刻蝕，然而這種方法對同一種材料的刻蝕是各向同性的。在離子增強(qiáng)刻蝕中，高能粒子撞擊表面時，會在表面形成缺陷、位錯或懸浮，這些缺陷提高了表面的化學(xué)反應(yīng)刻蝕速率，使這種刻蝕過程同時具備可選擇性和方向性。

在所有的這些清洗過程中，在碳?xì)浠衔锱c襯底之間的鍵合被削弱，獲得的能量使這些有(機(jī))復(fù)合物從襯底上脫離。一旦脫離有(機(jī))化合物分子基團(tuán)就會被惰性氣體帶走。等離子體所產(chǎn)生的光輻照、中性粒子流和帶電粒子轟擊為結(jié)合鍵的斷裂提供了能量。這些能量首先被碳?xì)浠衔镂蘸?，在各種形式的二次過程中又被消耗掉。正是這些各種形式的二次過程實現(xiàn)了表面清洗的效(果)。在等離子體中存在大量的紫外線輻照，能量被聚合物吸收后，產(chǎn)生了化學(xué)性質(zhì)很活躍的自由基，這些自由基和容易與等離子體中的氣體發(fā)生(發(fā))生反應(yīng)，產(chǎn)生揮發(fā)性氣體。在等離子體中，快離子與中性粒子碰撞后產(chǎn)生的中性自由基不斷地轟擊樣品表面，以動能、振動‘解離和激發(fā)態(tài)的模式在中性粒子之間進(jìn)行電荷交換和能量傳遞。運(yùn)動動能和振動動能以一種溫和的方式加熱表面，解離和激發(fā)態(tài)產(chǎn)生的自由基以平動或振動的方式傳遞熱量。如果能量超過閾值，則可能導(dǎo)致濺射，并伴隨著自由基團(tuán)的產(chǎn)生。處理明(顯)的類似于機(jī)械的方法去除表面污染物濺射過程外，等離子體中的自由基是很重要的去除碳?xì)浠衔锏囊蛩亍?/p>