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IMA™熒光高光譜成像系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

高光譜成像系統(tǒng)

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八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司是創(chuàng)建于2017年,是集測(cè)試測(cè)量、研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)為一體的高科技公司,亞太區(qū)總部位于中國(guó)上海。并在北京設(shè)立辦事處。八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司致力于代理和應(yīng)用*成熟的測(cè)試測(cè)量?jī)x器及技術(shù),應(yīng)用于材料,物理,光學(xué),化學(xué),生物等領(lǐng)域。同時(shí)與國(guó)內(nèi)外研發(fā)機(jī)構(gòu)合作研究開(kāi)發(fā)高精密測(cè)試測(cè)量技術(shù)及設(shè)備定制。有各*機(jī)構(gòu)的技術(shù)支持,匯集有行業(yè)的精英技術(shù)團(tuán)隊(duì),負(fù)責(zé)產(chǎn)品及方案設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造、售前售后服務(wù)。

原子力顯微鏡,原子力拉曼,有機(jī)合成質(zhì)譜儀,制備色譜,納米紅外光譜儀,掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡,電鏡下原子力,微米級(jí)3D打印機(jī),

成像方式 濾光片型 工作原理 濾光片型
價(jià)格區(qū)間 面議 使用狀態(tài) 機(jī)載
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

IMA™熒光高光譜成像系統(tǒng)介紹:

IMA™高光譜顯微鏡平臺(tái)可提供同樣高的光譜和空間分辨率。將這個(gè)模塊化系統(tǒng)配置為快速掃描VIS,NIR和/或SWIR光譜,可同時(shí)繪制光致發(fā)光,電致發(fā)光,熒光,反射光和透射光的組合。每個(gè)IMA™都配備了高吞吐量的全局成像濾鏡;這使其比依賴掃描光譜的高光譜系統(tǒng)更快地測(cè)量百萬(wàn)像素超立方體。

IMA™為您打開(kāi)了大門

  • 執(zhí)行復(fù)雜的材料分析,例如太陽(yáng)能電池表征和半導(dǎo)體質(zhì)量控制(例如:鈣鈦礦,GaAs,SiC,CIS,CIGS等)。

  • 在復(fù)雜的環(huán)境(包括活細(xì)胞和組織)中研究IR標(biāo)記。以在第二生物窗口中發(fā)射的IR熒光團(tuán)的光譜異質(zhì)性為例。

  • 檢索暗場(chǎng)圖像并獲得透明和未染色樣品(例如聚合物,晶體或活細(xì)胞)的對(duì)比度。

IMA™熒光高光譜成像系統(tǒng)特點(diǎn):

  • 快速全局映射(非掃描)
  • 高空間和光譜分辨率
  • 完整的系統(tǒng)(源,顯微鏡,相機(jī),濾鏡,軟件)
  • 無(wú)損分析
  • 可定制
  • 可見(jiàn)光范圍從400到1000 nm,SWIR范圍從900 nm到1700 nm

技術(shù)指標(biāo):

光譜范圍

VIS-SWIR型號(hào) 
400-1620 nm

可見(jiàn)光 
400-1000 nm

短波 
900-1620 nm

光譜分辨率<2納米<4納米
相機(jī)CCD,EMCCD,sCMOSZephIR 1.7

激發(fā)波長(zhǎng) 
(多3個(gè)激光)

405、447、532、561、660、730、785或808 nm
顯微鏡直立或倒立;科學(xué)級(jí)
空間分辨率

亞微米 
(受顯微鏡物鏡NA限制)

大樣本大小10厘米x 10厘米
X,Y旅行范圍76毫米x 52毫米
Z-階段分辨率100納米
照明 
照明選項(xiàng)
透射,透射,LED,HG,落射 
熒光模塊,暗場(chǎng)模塊
波長(zhǎng)jue對(duì)精度0.25nm
視頻模式百萬(wàn)像素相機(jī)用于樣品可視化
數(shù)據(jù)處理空間過(guò)濾,統(tǒng)計(jì)工具,頻譜提取,數(shù)據(jù)歸一化,頻譜校準(zhǔn),疊加,中心位置圖等。
超光譜數(shù)據(jù)格式HDF5,F(xiàn)ITS
單圖像數(shù)據(jù)格式HDF5,CSV,JPG,PNG,TIFF
軟件PHySpec™控制和分析(包括計(jì)算機(jī))
尺寸圖≅150厘米x 85厘米82厘米
重量≅80公斤
 
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