紫外线臭氧清洗的优点
? 适用于各种基材的无损清洗。
? 易 于 去 除 超 声 波 清 洗 无 法 清 洗 干 净 的 基 材 表 面 的 有 机 污 染 物 。
? 能 够 去 除 湿 洗 过 程 中 残 留 的 有 机 溶 剂 。
? 常 压 下 工 作 。 无需真空环境。
? 薄 膜 涂 层 基 体 预 处 理 的 理 想 解 决 方 案 。

技术应用

光清洗技术的应用范围十分广泛，在现代信息技术行业中使用光清洗技术比较普遍，随着我国工业现代化的发展，光清洗和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。

1、在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以特别大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；

2、印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。

3、大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。

4、在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生。

5、在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。

6、磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果更好。

7、石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。

8、在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。

9、彩色滤光片生产中，光清洗后能*洗净表面的有机污染物。

10、敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高。

11、光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。

12、树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。

13、对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余的光刻胶、环氧树脂、焊剂，以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗是十分有效的方法。