離子清洗機plasma電漿干式清洗在這方面有相當大的競爭優(yōu)勢，特別是plasma電漿清洗機的清洗過程一直被應用于半導體材料、電子器件、精密機械設備等制造業(yè)。和濕法清洗不同，plasma電漿清洗的基本原理是借助等離子態(tài)成分的“激活”來清除表面的污染物。就各種清洗方式而言，等離子清洗機plasma電漿清洗是一種*剝離式清洗方式，很好的一種環(huán)保清洗方式。

等離子清洗機建立的輝光放電提高了這些原材料在整個清洗過程中的附著力、相容性和潤濕性。借助等離子清洗工藝，一般可以建立表面改性材料、表面層清洗和活化的效果。采用等離子清洗工藝后，下一階段的產(chǎn)品工藝更加穩(wěn)定。

等離子表面處理機，印刷包裝前的新輔助設備提高材料表面親水性的等離子體清洗機等離子體處理器提高了產(chǎn)品的表面附著力和結合力。

低溫等離子處理設備廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化和等離子表面改性等場合。通過其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、氧化層、油污或油脂。

等離子清洗機不但能清洗掉表面的污物，而且還能增強材料表面的粘附性能。