产品介绍

氢氟酸（HF）是一种无色透明的液体，具有刺激性气味，具备腐蚀性和毒性。氢氟酸能够强烈腐蚀金属、玻璃等多种材料，还易溶于水并形成溶液，具有挥发性，会释放出氟化氢气体。

在泛半导体制造中，氢氟酸被广泛应用于晶圆清洗，用于去除表面污染物以提高洁净度；在氧化层刻蚀中，它能精确控制刻蚀深度和均匀性，实现精细图形的转移，同时还参与表面处理和化学抛光等工艺。然而，氢氟酸的浓度控制至关重要，它直接影响刻蚀速率和均匀性，进而关系到芯片的性能和良率。浓度过高可能损伤精密设备，而浓度过低则无法达到理想的工艺效果。此外，控制氢氟酸浓度还能确保操作人员的安全，避免因接触高浓度氢氟酸而造成伤害。

楚一测控CYR-E-HF-氢氟酸浓度在线监测仪为泛半导体行业的氢氟酸浓度监测提供了创新解决方案。传统的离线分析方法不仅耗时、易出错，更无法满足行业对实时监控的严苛要求。而该仪表专为泛半导体行业设计，能够对生产过程中的氢氟酸浓度进行实时监测，满足行业对高精度、高可靠性的需求。它可以在线监测晶圆清洗槽中的氢氟酸浓度，确保清洗效果稳定；实时监控刻蚀液中的氢氟酸浓度，实现对刻蚀工艺的精确控制；还能用于氢氟酸回收系统，优化回收效率，降低生产成本。在线折光仪的实时监控功能能够快速响应，及时反映浓度变化，避免批次间的差异；其无损测量方式不接触样品，避免污染，保证工艺的纯净度；并且可以与控制系统集成，实现自动化调节，提高生产效率。

CYR-E-HF-氢氟酸浓度在线监测仪基于折光原理进行测量。光线从棱镜射入氢氟酸溶液时会发生折射现象，折射角的大小与氢氟酸的浓度有关，浓度越高，折射角越大。通过测量折射角并结合温度补偿，仪表可以精准计算出氢氟酸的浓度。这种测量方式具有诸多优势：折射率测量精度高，能够准确反映浓度变化；抗干扰能力强，受样品颜色和浊度的影响??；结构简单，维护成本低。

选择CYR-E-HF-氢氟酸浓度在线监测仪，您将获得专为泛半导体行业优化的高性能设备。我们采用特种耐氢氟酸腐蚀材质（超纯PTFE、PFA），确保仪表在苛刻的化学环境中长期稳定运行，避免腐蚀造成的测量误差。高精度光学传感器和能够实现对氢氟酸浓度的准确测量，满足泛半导体行业对高精度的需求。内置高精度温度传感器可实现自动温度补偿，消除温度变化对测量结果的影响，保证测量精度。同时，我们还提供定制化服务，可根据客户的具体工艺需求，提供个性化的解决方案。

技术参数