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品質創(chuàng)造價值 矽萬半導體驚艷亮相納博會
2024年10月29日 10:21:33
來源：化工儀器網 作者：楊 點擊量：8939
在本次CHInano博覽會上，矽萬半導體向參展觀眾展示了其最新的半導體技術和產品，包括高精度/高灰度光刻解決方案、超大幅面高精度光刻解決方案等。
【化工儀器網 廠商報道】2024年10月23日，第十四屆中國國際納米技術產業(yè)博覽會(CHInano)在蘇州國際博覽中心盛大開幕。本次博覽會為期三天，聚焦微納制造、第三代半導體、納米應用等多個前沿科技領域，吸引了超過2400家相關企業(yè)參展參會。矽萬(上海)半導體科技有限公司作為半導體行業(yè)的技術型企業(yè)，也應邀參加了此次盛會。
矽萬(上海)半導體科技有限公司(以下簡稱：矽萬半導體)是一家致力于設計、研發(fā)、生產、銷售和服務高精密半導體設備的高新技術中外合資企業(yè)。公司以“品質創(chuàng)造價值，服務實現共贏”為經營理念，專注于為客戶提供PicoMaster無掩模激光直寫光刻機，包括設備的安裝調試、工藝改進、軟件開發(fā)、以及可選配的涂膠顯影清洗設備等。
矽萬半導體展臺現場
在本次CHInano博覽會上，矽萬半導體向參展觀眾展示了其最新的半導體技術和產品，包括高精度/高灰度光刻解決方案、超大幅面高精度光刻解決方案等。作為一家專注于半導體技術研發(fā)與生產的公司，矽萬在半導體制造領域積累了豐富的經驗和技術實力。此次參展，不僅展示了公司的最新成果，也為業(yè)界提供了一個深入了解矽萬半導體技術和產品的平臺。
高精度/高灰度光刻解決方案
產品名稱：PicoMaster ATE-200
技術規(guī)格：
分辨率300nm
灰度光刻4096階
Energy Compensation Method(ECM)
高精度/高灰度光刻解決方案
應用效果圖
超大幅面高精度光刻解決方案
產品名稱：PICOMASTETR XF ATE-1000
技術規(guī)格：
400nm最小分辨率
400nm, 600nm, 1.5um和2.5um四種分辨率自動切換
最大直寫速度5000m㎡/minute
光源波長355nm
256階灰度光刻
幅面200，500，800，1000和1400
超大幅面高精度光刻解決方案
應用效果圖
在博覽會期間，矽萬半導體與來自全球的同行進行了深入的交流與合作探討，共同探討了半導體技術的發(fā)展趨勢和未來方向。通過此次參展，矽萬半導體不僅擴大了自身的品牌影響力，也進一步了解了市場需求和行業(yè)發(fā)展趨勢，為未來的技術研發(fā)和市場拓展提供了寶貴的經驗和信息。相信未來，矽萬半導體將繼續(xù)秉承創(chuàng)新、務實、高效的企業(yè)精神，不斷加強技術研發(fā)和市場拓展，為全球半導體產業(yè)的發(fā)展做出更大的貢獻。
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