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最新资讯 日本ULVAC爱发科 真空泵
发布日期
2025年 6 月2 5 日
我公司发表了[新产品]“ULVAC爱发科 真空泵新闻"。
爱发科ULVAC凭借其多样化技术路线（干式/油式）和的稳定性，广泛应用于以下核心领域：
一、半导体与制造?
?芯片制造关键工艺?
用于刻蚀、离子注入、薄膜沉积等环节，提供高洁净真空环境（干式泵避免油污染晶圆）。
溅射设备中维持10?3 P真空度，保障金属镀层均匀性（如GLD系列油旋片泵）。
?显示面板与光学镀膜?
液晶面板生产的真空贴合工艺，确保无气泡缺陷。
光学镜片镀膜时提供稳定真空，提升薄膜附着力（DAP-6D隔膜泵适用小型设备）。
二、能源与化工?
?新能源电池生产?
电极材料干燥工序中创造无油真空，防止电解液污染。
太阳能电池硅片镀膜设备的真空系统。
?化工流程强化?
真空蒸馏、分子蒸馏工艺的核心动力源（耐腐蚀型号处理酸性气体）。
腐蚀性气体回收（如DAT-100S干泵耐受HF、Cl?）。
三、通用工业场景?
核心性能优势?
?高洁净度?：干式泵（如DAT系列）杜绝油蒸气反流，满足半导体级洁净要求。
?强适应性?：
油旋片泵（VDN301）支持高粉尘、水蒸气环境。
特殊涂层泵体耐腐蚀性提升3倍以上。
?低维护设计?：无弹簧旋片结构（如VSN2401）避免停泵故障，寿命延长40%。
注：油式泵需定期更换密封件和润滑油，建议按厂商指南维护。
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