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谱育科技出席第 23 届全国分子光谱学学术会议和第五届光谱年会

来源:杭州谱育科技发展有限公司 2024年12月06日 09:27

谱育科技出席第 23 届全国分子光谱学学术会议和第五届光谱年会

11月30日-12月1日,第 23 届全国分子光谱学学术会议和第五届光谱年会暨黄本立院士百岁华诞学术研讨会在福建省厦门市召开。此次盛会由中国光学学会、中国化学会,以及中国光学学会光谱专业委员主办,由厦门大学承办。本次大会汇聚了国内外光谱相关领域的院士、专家学者和企业代表,通过这一平台,与会者不仅分享了各自研究领域的最新成果,并就未来所面临的科技挑战展开了深入探讨。

谱育科技携SUPEC 7000 ICP-MS,EXPEC 6500 ICP-OES,EXPEC 3750 GC-MS、SUPEC 5000 COD等高端分析仪器参与本次会议,为促进实验室分析研究和应用技术发展贡献力量。

谱育科技出席第 23 届全国分子光谱学学术会议和第五届光谱年会

谱育科技拥有丰富的技术平台和产品体系,掌握了质谱、色谱、光谱、理化等分析检测技术及气体、液体、固体等进样前处理技术。在光谱技术领域,公司积累了近20年的研发沉淀,构建了包括分子光谱、原子光谱和荧光光谱在内的多个技术平台,展现出强劲的创新动力。

 

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会议上,谱育科技质谱分析研究部副经理 吴智威博士发表了题为《ICP质谱技术在超痕量分析与瞬态信号分析领域中的应用进展》的报告。

谱育科技出席第 23 届全国分子光谱学学术会议和第五届光谱年会

吴博向与会专家详细介绍了谱育科技ICP-MS/MS与ICP-Q-TOF在超痕量分析领域及瞬态信号分析领域的最新进展。其中,EXPEC 7350S型 ICP-MS/MS基于其优异的检出性能,目前已具备全面覆盖晶圆表面杂质、湿化学品、电子特气、硅烷等典型样品的超痕量分析需求的技术能力,并且可为我国半导体检测设备与技术的国产替代提供强有力的技术支撑。而在瞬态信号分析方面,吴博基于ICP-Q-TOF技术对金属标签掺杂纳米/微米塑料的表征研究为例,介绍了谱育科技在瞬态信号分析领域中的最新进展,并对ICP质谱技术在单颗粒、单细胞的进一步前沿应用进行了展望。

谱育科技出席第 23 届全国分子光谱学学术会议和第五届光谱年会

会议期间举行了“黄本立院士奖学金”捐赠证书颁发仪式,该学奖金为支持厦门大学化工学院的建设,激励在校学子勇攀科学高峰。谱育科技捐献了10万元助资学院的黄本立奖金,吴智威博士代表谱育科技领取黄本立奖学金捐赠证书。

展望未来,谱育科技将不断秉承黄本立院士永攀高峰、敢为人先的创新精神,以及专心努力潜心研究的奉献精神,坚定不移地推进高端科学仪器国产化的发展道路。我们致力于通过不懈努力,支持国家在科技领域实现更高水平的自主可控,不断向着更加宏伟的目标前进,为我国科技进步贡献力量。

 

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